书籍：《炬丰科技-半导体工艺》
文章：半导体化学腐蚀参考文献
编号：JFKJ-21-217
作者：炬丰科技
摘要
综述了III±V半导体化学蚀刻的相关文献，以便组织引文对装置和材料研究者有用的类别。 描述性引文按拟蚀刻分组 应用和细分按特定的半导体湿法和干法蚀刻。 单独的部分分组由各种化学成分作为蚀刻剂使用的引物，使对结果和问题的看法得以广泛访问。<
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