《炬丰科技-半导体工艺》MEMS的 LPCVD和PECVD工艺比较

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本文介绍了《炬丰科技-半导体工艺》中关于MEMS的LPCVD和PECVD工艺的比较。随着MEMS行业的发展，工艺技术对批量生产的要求提高，LPCVD因能沉积多晶硅、氧化物和氮化物薄膜而被广泛应用，特别是在氮化硅膜的制备上。另一方面，PECVD作为低温沉积工艺，也在MEMS制造中扮演重要角色。

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：MEMS的 LPCVD和PECVD工艺比较

编号：JFKJ-21-182

作者：炬丰科技

介绍  

  MEMS行业在2012年增长超过10%，而这一年正是半导体行业发展的一年下跌

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