《炬丰科技-半导体工艺》衬底温度对ZnO薄膜的结构和光学特性的影响

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：衬底温度对ZnO薄膜的结构和光学特性的影响

编号：JFKJ-21-693

作者：炬丰科技

关键词:氧化锌薄膜；衬底温度；光学性质；APCVDXRD扫描电镜，原子力显微镜。

摘要

在这项工作中，氧化锌(氧化锌)薄膜沉积在玻璃基板上的技术。氧气流速(4NL/h)用于各种衬底温度(300，350，400、500和550 ̊C)，沉积时间为30分钟。XRD分析显示，在500 ̊C和氧气流速(4 NL/h)下沉积的ZnO出现了一个尖锐的峰，这表明薄膜完全生长。平均微应变用威廉姆森-霍尔方法分析。扫描电镜照片证实纳米颗粒是由较小的氧化锌团聚体组成的。用图像分析软件测量了氧化锌薄膜的晶粒尺寸，用原子力显微镜研究了薄膜的粗糙度和形貌。紫外可见光谱测量表明ZnO薄膜的带隙值在(3.18-3.88eV)。