一:《碳化硅薄膜的选择性刻蚀》
二:《碳化硅衬底和外延》
三:《碳化硅衬底及其制造方法》
四:《碳化硅热氧化
该技术资料合集详细探讨了碳化硅在半导体工艺中的应用,包括选择性刻蚀、衬底制造、热氧化、化学机械抛光等多个方面,并涉及到其他相关材料如氮化物、硅基薄膜的制备方法,以及对表面处理和设备可靠性的评估。
一:《碳化硅薄膜的选择性刻蚀》
二:《碳化硅衬底和外延》
三:《碳化硅衬底及其制造方法》
四:《碳化硅热氧化
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