一:《单晶的湿法蚀刻和红外吸收》
二:《金属氧化物半导体的制造》
三:《半导体晶体生长技术》
四:《Cmos制造工艺》
五:《硅片清洗技术的演变》
六:《III-V集成光子的制备》
七:《HQ2和HF溶液循环处理》
八:《III-V的光子学特性》
九:《IC制造工艺步骤》
十:《半导体化学腐蚀参考文献》
十一:《单光子发射器设备应用》
十二:《半导体扩散工艺》
十三:《集成电路制造过程》
十四:《PFA 内衬分体球阀》
十五:《PFA 流体隔膜阀系列》
十六:《PFA 浸没式加热器》
十七:《PECVD表面动力学研究》
十八:《数字流量开关》
十九:《III-V族化学-机械抛光工艺开发》
二十:《高纯度化学品在电子中的应用程序》