《炬丰科技-半导体工艺》--技术资料合集14

本文集合了半导体工艺的多个关键环节,包括单晶的湿法蚀刻、金属氧化物半导体制造、硅片清洗技术、Cmos工艺、III-V集成光子的制备以及半导体扩散和集成电路制造等核心内容,深入探讨了半导体行业的关键技术及其应用。

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一:单晶的湿法蚀刻和红外吸收

二:金属氧化物半导体的制造

三:半导体晶体生长技术

四:Cmos制造工艺

五:硅片清洗技术的演变

六:III-V集成光子的制备

七:HQ2和HF溶液循环处理

八:III-V的光子学特性

九:IC制造工艺步骤

十:半导体化学腐蚀参考文献

十一:单光子发射器设备应用

十二:半导体扩散工艺

十三:集成电路制造过程

十四:PFA 内衬分体球阀

十五:PFA 流体隔膜阀系列

十六:PFA 浸没式加热器

十七:PECVD表面动力学研究

十八:数字流量开关

十九:III-V族化学-机械抛光工艺开发

二十:高纯度化学品在电子中的应用程序

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