Layout设计中的几个关键步骤是布局、走线、铺铜、散热,英诺赛科高压单管GaN的Layout设计也不例外。
反激拓扑是高压单管GaN的典型应用,快充场合常用。该拓扑在地线的处理上都需特别注意,如下图所示,Layout时辅助绕组地、IC信号地功率地在bulk电容处汇合,避免IC地受干扰导致驱动振荡。
在GaN应用时,Layout上还需注意以下方面:
1) 由于电流检测电阻的存在,此种场合GaN的开尔文脚与源极直接连接,否则电流采样电阻失去作用。
2) Source端与bulk电容地的走线尽可能短、粗,减小寄生电感LS。
3) 驱动电路和功率电路分开布置,避免干扰
4) 驱动IC及驱动电路尽量靠近GaN一些,减小驱动回路的走线和面积
5) 高压场合,GaN的漏源极交叠铜皮的寄生电容尽量小,以优化开关loss。
下面为DFN封装