在射频电路设计中,传输线拐角是不可避免的结构。但看似简单的拐角,却会带来信号完整性问题。当高频信号经过拐角时,传输线的有效宽度会突然变化。这个变化会导致局部阻抗突变。信号这时会感受到“道路突然变宽”的阻抗变化,一部分能量被反射回信号源。这种现象就像水流遇到河道突然变宽处产生漩涡一样。

要分析这种影响,史密斯圆图是射频工程师的关键工具。这个圆图是1939年由菲利普·史密斯发明的。它把复杂的阻抗数据“折叠”进一个单位圆里。圆图中心代表理想的匹配点(例如50Ω)。实轴最左端对应短路点(阻抗为0),最右端代表开路点(阻抗无穷大)。上半圆区域表示感性阻抗,下半圆区域表示容性阻抗。
当传输线出现拐角时,在史密斯圆图上会有明确反映。以最常见的直角拐角为例。直角结构会使拐角处的有效线宽变大。这导致局部阻抗下降。在圆图上,原本在中心点的阻抗会向左下方移动。移动的距离取决于拐角的尺寸和工作频率。阻抗点离中心越远,说明反射越强,匹配越差。
工程师在圆图上观察这个偏移时,能直接估算出反射系数增大的程度。反射系数Γ的公式为Γ = (Z - Z0)/(Z + Z0)。Z是拐角处的实际阻抗,Z0是传输线特性阻抗。阻抗突变越大,Γ的模越接近1,意味着更多能量被反射而非传输到负载。
实际设计中,改善拐角效应有成熟方法。将直角改为45°斜切角或圆弧角是最常见的优化。斜切角能减少多余金属面积。圆弧角则提供平缓过渡。这两种结构都使阻抗变化更缓慢。在史密斯圆图上,优化后的阻抗点偏移明显减小。偏移轨迹更贴近中心区域,证明反射得到抑制。
使用圆图分析时,工程师遵循三步法:定位原始阻抗点,预测拐角引起的移动方向,评估对系统匹配的影响。例如一个初始阻抗点在圆图中心(50Ω匹配状态),经过直角拐角后,点会移向左下方(如30Ω容性区)。这个偏移量直接显示电压驻波比(VSWR)的恶化程度。现代设计软件能自动模拟此过程,但理解圆图背后的物理意义仍不可或缺。
在5G和毫米波等高频应用中,拐角效应更敏感。此时即使微小阻抗扰动也可能导致信号失真。借助史密斯圆图的直观分析,工程师能快速验证不同拐角结构的效果。最终在电路效率和布局复杂度之间找到平衡点。
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