镀金工艺并非总是一帆风顺,黑盘、针孔、金丝短路堪称三大“隐形杀手”,轻则导致焊接失效,重则引发整板报废。本期聚焦镀金工艺的常见缺陷成因与攻克方案,为工程师提供一本“排雷手册”。

黑盘现象:镍层氧化的致命陷阱
黑盘是化学镀金(ENIG)的典型缺陷,表现为镍层局部氧化发黑,使金层与镍层结合力归零。其成因包括:
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浸金时间过长:金置换反应过度腐蚀镍层,形成多孔结构。
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磷含量不均:镍层磷含量需控制在7%–10%,否则易氧化。
解决方案:
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严格控制浸金时间(通常30–60秒)与温度(80±5℃)。
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在镍槽添加抗氧化剂,并在浸金前增加柠檬酸活化步骤。
针孔缺陷:电镀液的“呼吸之痛”
针孔是金层中的微米级空洞,如同电路板的“呼吸孔”,导致底层镍腐蚀。其产生原因主要有:
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有机污染:电镀液中的油脂或残留光刻胶会阻碍金离子沉积。
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氢气附着:电镀时阴极析氢,气泡滞留于板面形成孔洞。
应对策略:
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采用活性炭过滤电镀液,每周循环处理3次。
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增加超声波搅拌,及时移除板面气泡。
金丝短路:高频电路的幽灵
当线间距≤4mil时,电镀过程中金离子可能沿板面迁移形成“金丝”,引起短路。尤其在5G模块的密集布线中,此问题频发。
抑制手段:
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设计端:线间距需≥2倍线宽(遵循3W规则),焊盘间加设阻焊桥。
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工艺端:采用低应力干膜(如GPM-220)遮蔽非镀区域,干膜开口比焊盘大2mil以防金渗。
质量检测:四大防线阻击缺陷
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附着力测试:用3M胶带粘贴后撕扯,金层脱落面积需<5%。
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热应力测试:288℃锡炉浸泡10秒,金层无起泡算合格。
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孔隙率检测:将板浸入硝酸蒸汽,通过氧化点数量计算孔隙率(应≤5个/cm²)。
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可焊性评估:用锡球铺展试验,焊锡覆盖面积需>90%。
缺陷防控是镀金工艺的核心挑战。通过优化参数、强化检测,方能将废品率控制在千分之三以下。下期我们将探索镀金工艺的未来:无氰电镀、局部增厚技术如何引领行业变革?
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