silvaco6-doping

最新推荐文章于 2024-09-28 00:01:10 发布

Shanner

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本文链接：https://blog.youkuaiyun.com/Shanner/article/details/105585692

本文详细介绍了在半导体工艺中如何使用DoingDefine进行掺杂分布的定义，包括均匀、高斯、误差函数等分布类型，以及n型和p型掺杂剂的选择。通过具体示例展示了如何设置掺杂浓度、位置及峰值等参数。

摘要生成于 C知道，由 DeepSeek-R1 满血版支持，前往体验 >

Doing Define
doping <distribution type> <dopant type> <concentration> <position>

Distribution：uniform, gaussian, erfc（error function），
Dopant type：n.type,p.type
Position：region,x.min,x.max,y.min,y.max,peak,junction…

Eg：
p type doping
doping p.type conc=1e19 x.min=0 x.max=3 junc=1 rat=0.6 gauss
Note： The latter doping can be added into the Previous doping

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