《炬丰科技-半导体工艺》GaN 蓝绿光激光器的发展

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本文详细介绍了GaN基蓝绿光激光器在投影显示、激光加工等领域的应用，重点关注了制备高质量InGaN/GaN多量子阱、减少内部光学损耗、提高空穴注入效率等技术难点，并提出相应的解决方案。讨论了边发射激光器、垂直腔面发射激光器(VCSEL)和分布式反馈激光器(DFB)的研究现状。

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：GaN 蓝绿光激光器的发展

编号：JFKJ-21-313

作者：炬丰科技

摘要

  氮化镓( GaN) 基蓝光和绿光激光器在投影显示、激光加工、激光照明、存储等领域，其具有重要的应用前与广泛的市场需求。本文着重介绍了 GaN 基蓝光和绿光边发射激光器的技术难点和相应的解决方案。在 GaN 基蓝光与绿光 激光器中，就制备高质量 InGaN/GaN 多量子阱、减少内部光学损耗、增加空穴注入效率等方面分别介绍了一些结构与工艺方面的优化方法。简要介绍了垂直腔面发射激光器( VCSEL) 、分布式反馈激光器( DFB) 的研究现状。

关键词: 半导体激光器; 氮化镓; 热退化; In 偏析; 内部光学损耗; 载流子注入效率

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