《炬丰科技-半导体工艺》半导体晶片清洁

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：半导体晶片清洁

编号：JFKJ-21-248

作者：炬丰科技

摘要  

  一种使用稀硫酸的水溶液-稀酸是用超干净的去离子水制成的。需要清洁的半导体表面浸在和解出后立即解出形成的。

 发明背景  

(一)发明领域  

  本发明涉及用于清除半导体晶圆表面的方法有表面污染和提高质量以及注意半导体器件制造中的性能和电路。  

2)现有技术  

  半导体表面是其中一个重要的方面，在高质量和高成品率的半晶体中制造导体设备。半导体的表面状况在表演中起着至关重要的作用。最终的设备，无论设备的处理需要一个步骤还是多个步骤都 在使用MOS技术的器件中，半导体的特性尤为重要。  

发明摘要  

  本发明简单，成本低但提供清洁和无污染半瓶装水的方法 这项发明消除了许多现在所需要的复杂 而繁琐的程序 半导体晶圆的最后清洗。 本发明利用一种新制备的稀释剂 ，水溶液硫酸在适当的混合溶液中的溶液 这样才能有效地利用稀释的热量，通常洗液的pH值小于1。所形成的稀水溶液的形成用下式表示: