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🔥 内容介绍
UiO(University of Oslo)系列金属有机框架(MOFs)材料,因具有高比表面积、可调孔径结构及优异的化学稳定性,在气体吸附、催化、传感器等领域展现出广阔应用前景。UiO 材料的微观结构(如晶体形貌、粒径分布、孔道完整性)直接决定其宏观性能,而数字图像分析是获取微观结构信息的核心手段。
传统图像特征检测方法(如边缘检测算子)在处理 UiO 材料图像时,易受噪声(如扫描电子显微镜(SEM)图像中的电子噪声、X 射线衍射(XRD)图像中的背景干扰)、结构重叠等问题影响,难以精准提取直线、圆等关键几何特征。Hough 变换作为一种经典的参数空间变换算法,通过将图像空间中的几何特征映射到参数空间,实现对噪声鲁棒的特征检测,为 UiO 材料数字图像的精准分析提供了有效解决方案。
本文系统研究 Hough 变换的基本原理及其改进算法,结合 UiO 材料(如 UiO-66、UiO-67)的 SEM、透射电子显微镜(TEM)及原子力显微镜(AFM)图像特性,开展直线检测(如晶体边缘、孔道阵列)、圆检测(如纳米颗粒、缺陷位点)及参数优化研究,旨在为 UiO 材料微观结构定量分析与性能调控提供技术支撑。
二、Hough 变换理论基础
2.1 标准 Hough 变换(HT)原理
Hough 变换的核心思想是将图像空间中的几何特征(如直线、圆)映射到参数空间,通过参数空间的累加投票实现特征检测。其本质是利用几何特征的 “点 - 参数” 对应关系:图像空间中满足同一几何特征的所有点,在参数空间中对应唯一的参数曲线,通过累加这些曲线的交点,即可确定几何特征的参数。



三、UiO 材料数字图像特性与预处理
3.1 UiO 材料图像类型与特征
其 SEM 图像中,理想晶体呈规则立方体结构,边缘为清晰直线;若存在合成缺陷(如配体缺失),则晶体边缘可能出现不规则凸起或凹陷,且表面可能存在纳米级缺陷孔洞(圆形或椭圆形)。因此,UiO-66 SEM 图像分析需同时实现直线(边缘)与圆(缺陷)检测,这正是 Hough 变换的核心应用场景。
3.2 图像预处理方法
为提升 Hough 变换的检测精度,需对 UiO 材料图像进行预处理,消除噪声与干扰,强化目标特征:
3.2.1 去噪处理
- 高斯滤波:针对 SEM/TEM 图像中的高斯噪声,采用 5×5 或 7×7 高斯核对图像进行平滑,标准差 σ 根据噪声强度调整(通常 σ=0.5-1.5),在保留边缘细节的同时抑制噪声;
- 中值滤波:针对 AFM 图像中的脉冲噪声(如探针异常点),采用 3×3 中值滤波,避免噪声对边缘梯度计算的影响;
- 小波去噪:对高噪声 TEM 图像(如晶格条纹图像),采用小波分解(如 db4 小波),对高频系数进行阈值处理(如软阈值),重构去噪后的图像,保留晶格直线特征。
3.2.2 边缘增强与提取
- 对比度增强:通过直方图均衡化或自适应直方图均衡化(CLAHE),提升 UiO 晶体与背景的对比度(如 SEM 图像中晶体边缘的灰度差异);
- 边缘提取:采用 Canny 边缘检测算子,通过双阈值(高阈值 Th、低阈值 Tl,通常 Th=2Tl)提取连续、细薄的边缘:
- 高阈值 Th:筛选强边缘,避免假边缘;
- 低阈值 Tl:连接弱边缘,保证边缘连续性,尤其适用于 UiO 材料的弱对比度缺陷边缘。
3.2.3 形态学操作
- 膨胀与腐蚀:对提取的边缘图像进行形态学腐蚀(消除细小噪声边缘)与膨胀(修复边缘断裂),得到完整的目标边缘(如 UiO 晶体的闭合边缘);
- 区域分割:采用阈值分割(如 Otsu 自适应阈值)将图像分为前景(UiO 晶体)与背景,排除背景区域对 Hough 变换的干扰,仅对前景区域进行特征检测。
四、Hough 变换在 UiO 数字图像分析中的应用
4.1 直线检测:UiO 晶体边缘与孔道阵列分析
UiO 材料的晶体边缘(如 UiO-66 的立方体边缘)与孔道阵列(如 UiO-67 的一维孔道)均表现为直线特征,通过 Hough 直线检测可实现这些特征的定量分析:



⛳️ 运行结果





🔗 参考文献
[1] 包黎明,钟孝伟,王乾乾.基于UIO的汽车主动悬架系统状态估计[J].汽车实用技术, 2017(22):4.DOI:10.16638/j.cnki.1671-7988.2017.22.008.
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[3] 梁原.基于MATLAB的数字图像处理系统研究[D].长春理工大学[2025-09-13].DOI:10.7666/d.y1242203.
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