《炬丰科技-半导体工艺》电化学铜沉积室设计优化薄膜均匀性

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：电化学铜沉积室设计优化薄膜均匀性

编号：JFKJ-21-283

作者：炬丰科技 

摘要

  本文研究了燃烧室设计参数对非均匀性的影还研究了电化学沉积Cu薄膜的方法通过模拟薄膜生长过程进行定量分析。