《炬丰科技-半导体工艺》光刻在掩模中转移几何形状图案的过程

最新推荐文章于 2025-12-09 09:33:27 发布

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书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：光刻在掩模中转移几何形状图案的过程

编号：JFKJ-21-198

作者：炬丰科技

光刻是在掩模中转移几何形状图案的过程，是覆盖在表面的一层薄薄的辐射敏感材料(称为抗辐射剂) ，也是一种半导体晶片。图5.1简要说明了光刻用于集

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