ICC 图文学习——LAB1:Data Setup 数据设置

本文介绍了使用ICC工具进行数据设置的步骤,包括检查数据准备(.synopsys_dc.setup、.v文件、.def、.sdc等)、创建Milkway设计库、读入网表文件、设置TLU+文件、读入SDC文件以及检查设计合理性。在创建Milkway设计库时,涉及了库文件如标准单元库、工艺文件、TLU+文件的选择与加载,确保设计库与逻辑库的一致性。

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1. 数据准备

在启动ICC工具之前,检查数据准备是否齐全,主要包括:
(1)非库文件:

  1. ICC启动环境设置文件:.synopsys_dc.setup
      该文件内容与DC中用的启动文件完全一样。软件在启动时会自动加载search path、target_library、link_library这些库,同时还定义了一些关联命令和变量,如下:
    在这里插入图片描述
  2. 门级网表文件( .v 文件):RISC_CHIP.v
      该文件是由DC工具产生的网表文件(. v文件),某些部分可以人为进行修改/编写。
  3. 设计的布局图:RISC_CHIP.def
      叫设计交换格式,是ASCII格式文件,它描述的是实际的设计,对库单元及它们的位置和连接关系进行了列表。由ICC经过floorplan后生成。
  4. 时序约束文件( sdc 文件):RISC_CHIP.sdc
      该文件(. sdc)由DC工具导出,并进行人工修改,使其满足设计要求。主要包含以下内容(时钟定义、周期、不确定度、转换时间、延迟时间和负载等)
    在这里插入图片描述

(2)库文件:
  1. 标准单元库( .db文件 ):用于提供std cell、IO、Macro的时序、功耗和面积等信息。
在这里插入图片描述
  2. 工艺文件( .tf文件 ):包含各个金属层对应的工艺参数(如图形定义及显示、互连线工艺信息和通孔信息),每种工艺对应唯一的工艺文件。
  3. 寄生参数库( TLU+文件 ):RC寄生模型文件,用来计算互连线RC的。其一般会对深亚微米的一些效应进行建模,一般有max和min两个corner的模型。
在这里插入图片描述

  4. MilkWay参考库:包含标准单元库、IO库、Macro库的各种参考库。
Milkway知识补充:
  Milkway数据库包含同一个cell的不同表示,称为cell的 “ 视图 ” ,它可以分为参考库和设计库。且ICC工具只能创建设计库,参考库需要借助Milkway工具。
  Milkway库最重要的功能就是记录工艺以及物理相关的信息,主要体现在FRAM View和CEL View上,除此之外,还可以记录PPA等信息,下面来具体了解一下这两种View:
   a. CEL View:诸如通孔via、标准单元、宏单元或整个芯片的物理结构的完整版图信息;包含cell的布局、布线、引脚和网表信息。
   b. FRAM View:用于布局布线的抽象化的版图物理信息,只有单元的轮廓、引脚位置和层、Metal blockages。

2. 创建Milkway设计库

  1. 启动ICC工具。(ICC启动后所有的输出均可在输出日志文件log中查看)
icc_shell
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