1.INV反相器:
(1)尽量压缩面积,毕竟芯片面积越小,在单位面积内的晶体管数量也就越多,芯片的性能也就越好,可以节省大量的经费。
(2)在PMOS和NMOS布局上面,通常PMOS在上,NMOS在下,PMOS栅极在下,NMOS栅极在上。在连接上,以栅极对栅极的方式连接。
(3)在画好衬底后,将N衬底的NWell与PMOS的NWell凑在一起,将P衬底的PPlus与NMOS的NPlus紧紧凑在一起,它们两个可以没有间距,再连接vdd33、vss33、gnd,用M1的金属线。
(4)在连线布局上,使用“输入在左,输出在右”的原则。
(5)在连好线之后,先把原点弄好,再标端口。还可以使用v快捷键,v快捷键的作用是粘附,先选中端口标签,再使用快捷键,将它粘附到某一个层次。
(6)看电路先看端口,分析有几个端口,几个输入端口,几个输出端口。
(7)看电路元器件,有什么样的元器件,如有mos管,看哪些是PMOS,哪些是NMOS。
(8)MOS管的Source(源极)和Drain(漏极)是可以进行对调的。
2.NAND与非门:(三版:layout3、layout4、layout5)
(1)器件摆放好之后,先给器件设置标签,这里的小技巧是,使用l快捷键,然后选择自动标签,再用CTRL+A快捷键,所有的器件都会标上标签。
(2)如果在不影响后续走线的情况,打孔最好是打两个以上的孔。如果影响后续的走线,就打一个孔就行。
(3)在一个小模块里面,最好尽量是多用M1的走线,少用M2进行走线,否则会影响后续模块连接之后的走线。
(4)在数字模块里面,可以用GATE层次走线。也可以在器件上方走线。
(5)能源漏共用、漏漏共用和源源共用就共用,可以极大缩减面积。
3.AND与门:
- 在缩减面积的时候,以版图的实用性为准。
- 当元器件比较大的时候,可以考虑更改元器件的finger数量,fingers指的是栅极的数量。