MOS跨导线性电路的分析与综合
1. 引言
MOS跨导线性电路(MOS Translinear Circuits)是一种在模拟集成电路设计中广泛应用的电路形式。这类电路利用了MOS晶体管在饱和区工作时的特性,能够实现高度线性的电流-电压转换。本文将深入探讨MOS跨导线性电路的分析与综合方法,帮助读者理解其工作原理、设计技巧以及实际应用。
2. MOS跨导线性电路的基本原理
MOS跨导线性电路的核心在于MOS晶体管的跨导特性。跨导(gm)是指晶体管栅极电压变化引起的漏极电流变化率。在饱和区,MOS晶体管的跨导特性非常接近线性,这使得MOS跨导线性电路能够在较宽的范围内保持良好的线性度。
2.1 MOS晶体管的跨导特性
MOS晶体管的跨导特性可以用以下公式表示:
[ g_m = \frac{\partial I_D}{\partial V_{GS}} ]
其中,( I_D )是漏极电流,( V_{GS} )是栅源电压。在饱和区,MOS晶体管的跨导特性可以近似为:
[ g_m = \sqrt{2 \mu_n C_{ox} \frac{W}{L} (V_{GS} - V_{th})} ]
其中,( \mu_n )是电子迁移率,( C_{ox} )是氧化层电容,( W )和( L )分别是晶体管的宽度和长度,( V