Q1:背面剔除是发生在光栅化阶段的,光栅化阶段之前还有顶点着色器,几何着色器等阶段,这些阶段是不是就被无用执行了?能不能把背面剔除放到顶点着色器里?
Q2:基于几何过程方法的描边,浅墨的博客里说这种方法非常适合单像素宽的线条,但如果线条的宽度超过这个值,那么通常会出现无法连接独立线段的情况,从而造成明显的缝隙。为什么
Q1:背面剔除是发生在光栅化阶段的,光栅化阶段之前还有顶点着色器,几何着色器等阶段,这些阶段是不是就被无用执行了?能不能把背面剔除放到顶点着色器里?
Q2:基于几何过程方法的描边,浅墨的博客里说这种方法非常适合单像素宽的线条,但如果线条的宽度超过这个值,那么通常会出现无法连接独立线段的情况,从而造成明显的缝隙。为什么