动作电位生成与传播的深入解析
1. 动作电位的产生机制
1.1 阈值与动作电位触发
当膜电位受到刺激时,其变化轨迹与输入相关。若输入为亚阈值刺激,膜电位会向静息电位回归;若注入超极化电流,膜电位会被拉回静息电位。静息电位附近的 I - V 曲线斜率(膜斜率电导)为正,表明 V = 0 是一个稳定吸引子。
当膜电位达到约 2.5 mV(Vth)时,电流为零,但该点不稳定,微小扰动就会使系统偏离。负扰动会使系统回到静息电位,而正电压位移会引发内向电流,进一步使膜去极化,导致更大的内向电流,最终触发动作电位。在这个过程中,会产生非常大的内向电流,远超过刺激电流的幅度。
不过,理论预测的 Vth = 2.5 mV 与实际的霍奇金 - 赫胥黎方程中快速兴奋性突触后电位(EPSP)的阈值 6.85 mV 存在差异。并且,动作电位的触发不仅要求达到特定电压,还需在特定时间窗口内完成。
1.2 不应期
动作电位产生后,膜电位需要尽快复极化,以便产生下一个冲动。这通过使钠电导(GNa)失活和增加钾电导(GK)来实现。钾电导在动作电位峰值后的一段时间内仍保持激活,导致膜超极化,此时膜处于不应期,更难产生动作电位。
不应期可通过第二个电流脉冲来验证。在第一个电流脉冲触发动作电位后,经过一段时间施加第二个电流脉冲,当第二个脉冲幅度达到一定值时才能触发第二个动作电位。在动作电位复极化后的最初几毫秒内,膜几乎不可兴奋,这被称为绝对不应期;之后一段时间内,触发第二个动作电位的阈值升高,称为相对不应期;再之后会有短暂的超兴奋性时期。
从计算角度看,霍奇金 - 赫胥黎模型的阈值行为取决于膜的先前放电历史。在
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