【问】线路制作是阻抗 PCB 生产的核心环节,哪些工艺细节会影响阻抗精度?
【答】线路制作是将设计好的线路图案转移到 PCB 基材上的过程,也是影响阻抗精度的关键环节,核心工艺细节主要有 3 个:
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图形转移精度:图形转移的精度直接决定了线宽和线距的实际尺寸,而线宽是调控阻抗的核心参数。传统的丝网印刷工艺精度较低,线宽偏差可达 ±0.03mm,无法满足高精度阻抗 PCB 的要求。目前行业内主流的工艺是激光直接成像(LDI),LDI 采用激光束直接在感光干膜上成像,线宽偏差可以控制在 ±0.005mm 以内,能精准还原设计的线路尺寸。
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蚀刻均匀性:蚀刻是将未被干膜覆盖的铜箔腐蚀掉的过程,蚀刻均匀性差会导致线宽不一致,进而造成阻抗值波动。比如蚀刻过度会让线宽变窄,阻抗值升高;蚀刻不足则会让线宽变宽,阻抗值降低。为了保证蚀刻均匀性,需要采用水平蚀刻工艺,并实时监控蚀刻液的浓度、温度和蚀刻速度。捷配的水平蚀刻生产线配备了在线检测设备,能实时监测线宽变化,一旦出现偏差,立即调整蚀刻参数。
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铜箔表面处理:铜箔表面的粗糙度会影响高频信号的传输损耗,进而间接影响阻抗稳定性。对于高频阻抗 PCB,通常采用低轮廓铜箔(LP 铜箔),这种铜箔的表面粗糙度更小,能减少信号的趋肤效应损耗,同时提高阻抗的稳定性。

【问】层压工艺在阻抗 PCB 生产中扮演什么角色?如何控制层压过程中的阻抗偏差?
【答】层压工艺是将多层 PCB 芯板和半固化片(PP 片)压合在一起的过程,其核心作用是形成稳定的介质层厚度,而介质层厚度是影响阻抗值的关键因素之一。如果层压过程中介质层厚度偏差过大,哪怕只有 0.01mm,都可能导致阻抗值超标。
要控制层压过程中的阻抗偏差,需要重点关注以下 4 个方面:
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半固化片选型:半固化片的树脂含量和流动度直接影响层压后介质层的厚度。生产前要根据目标介质层厚度,选择合适型号的半固化片,比如需要 0.1mm 的介质层厚度,就选择对应树脂含量的半固化片。同时,半固化片的介电常数要与基材一致,避免因介质参数不匹配导致阻抗漂移。
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层压参数设置:层压的温度、压力、时间是核心参数。温度过高会导致半固化片的树脂过度流动,介质层变薄;压力过大也会压缩介质层,导致厚度偏小;时间过长则会让树脂流失过多。不同型号的半固化片有对应的层压参数,必须严格按照厂商提供的工艺指导书设置。比如常规 FR-4 半固化片的层压温度通常在 170-180℃,压力在 2.0-2.5MPa,时间在 90-120 分钟。
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压板平整度:层压时如果压板不平整,会导致 PCB 不同区域的介质层厚度不一致,进而出现阻抗值分布不均的情况。因此,层压设备的压板必须定期校准,确保平整度偏差在 ±0.005mm 以内。
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涨缩控制:PCB 在层压过程中会因为温度变化发生涨缩,尤其是多层板,涨缩过大不仅会影响线路对齐,还会改变线宽和线距,影响阻抗。捷配在生产多层阻抗 PCB 时,会通过前期的涨缩测试,确定基材的涨缩系数,然后在设计阶段进行补偿,确保层压后线路尺寸和介质层厚度符合要求。
【问】阻抗 PCB 生产中,线路制作和层压工艺的常见问题有哪些?如何解决?
【答】线路制作和层压工艺是阻抗 PCB 生产中最容易出现问题的环节,常见问题及解决方案如下:
线路制作常见问题
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线宽偏差超标原因:感光干膜厚度不均匀、LDI 曝光能量不足、蚀刻参数不稳定。解决方案:定期检查感光干膜厚度,确保均匀性;校准 LDI 曝光能量,根据干膜厚度调整曝光参数;实时监控蚀刻液浓度和温度,采用闭环控制系统调整蚀刻速度。
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线路边缘毛刺原因:蚀刻液流速过快、蚀刻时间过长、基材铜箔与树脂结合力不足。解决方案:降低蚀刻液流速,优化蚀刻时间;选择结合力强的基材;蚀刻后进行去毛刺处理。
层压工艺常见问题
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介质层厚度偏差过大原因:半固化片选型错误、层压压力过大或过小、压板不平整。解决方案:重新核对半固化片型号,选择匹配的产品;校准层压压力,按照工艺指导书调整参数;定期检修压板,确保平整度。
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PCB 分层起泡原因:半固化片受潮、层压温度过低、压力不足。解决方案:半固化片使用前进行烘干处理,控制环境湿度在 40%-60%;提高层压温度,确保树脂充分固化;适当增加层压压力,促进树脂流动和粘结。
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