《炬丰科技-半导体工艺》玻璃在氢氟酸中的湿法化学蚀刻研究

书籍：《炬丰科技-半导体工艺》

文章：玻璃在氢氟酸中的湿法化学蚀刻研究

编号：JFKJ-21-193

作者：炬丰科技

摘要

  高效薄膜太阳能电池需要具有高吸收、低缺陷、透明导电的吸收层，氧化物薄膜，透过率超过80%，导电率高。此外，光可以通过玻璃捕获并送至光吸收层以提高效率。本文研究了玻璃表面形貌的形式利用HF对基片进行了研究，主要分为随机蚀刻和周期性蚀刻。我们讨论了蚀刻的问题机理、蚀刻速率、硬掩膜材料、周期性光俘获结构。  

关键词:光俘获，湿法蚀刻，化学，氢氟酸，薄膜，太阳能电池

介绍  

  玻璃，由于其独特的性能，被广泛地应用于光学器件、MEMS器件、太阳能电池等。光学透明且能承受大量光散，此影响可以被认为是最显著的属性。在这方面，玻璃的组合是相对容易的。薄膜硅太阳能电池是一种具有巨大潜力的光伏器件。这个生产在大规模的全自动生产中进行方式允许玻璃基板和低材料用量，低成本在薄膜中，硅太阳能电池，氢化非晶硅或作为吸收层的微晶硅。要使太阳能电池有效地吸收光，光对于高效率的太阳能电池来说，纹理表面的管理是必不可少的。表面纹理可以增强效果从透射光散射，然后低反射在入射光的表面。

本文还讲述了关于玻璃随机蚀刻的类型 ，湿化学 ，应用程序和结论等问题。