半导体失效分析的创新方法与技术
在半导体制造领域,失效分析是确保产品高质量和可靠性的关键环节。随着半导体技术的飞速发展,传统的失效分析方法面临着诸多挑战,而一些创新的方法和技术应运而生,为解决这些挑战提供了有效的途径。
标准化科学方法在失效分析中的应用
传统的半导体失效分析方法论存在不足,而一种标准化的科学方法为失效分析带来了新的解决方案。该方法由六个步骤构成一个循环的决策引擎,旨在为特定的失效创建具体的分析流程。
- 基本概念定义
- 已知效应 :直接测量或观察到的效应。
- 可能的先前原因(PPC) :导致已知效应的潜在原因。
- 二次效应 :PPC的其他效应。
- 根异常 :电子设备失效的首个原因。
- 过程原因 :制造过程中导致根异常的原因。
- 六个元过程步骤
- ECC问题 :以电压对比异常为例,假设可能的先前原因是金属迹线间的导电通路,构建问题“金属间导电通路是否存在、与观察到的电压对比异常相关并导致该异常?”
- 测量 :运用分析工具、观察和逻辑推理,寻找可能的先前原因的二次效应。例如,测量相邻线路
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