艺术画廊与点集模式匹配问题研究
在计算机科学和几何领域,艺术画廊问题和点集模式匹配问题是两个重要的研究方向。艺术画廊问题主要关注如何用最少的警卫来监视多边形区域的边界,而点集模式匹配问题则致力于在不同的变换下找到两个点集之间的匹配关系。
艺术画廊问题分类与结论
艺术画廊问题可以根据其目标和问题条件进行分类,主要分为最大化问题和最小化问题,并且可以根据近似比将这些问题归入不同的近似类。
- 近似类定义 :
- “$n^ϵ$”:表示具有$O(n^ϵ)$近似比的问题类。
- “log n”:表示具有$O(log n)$近似比的问题类。
- APX:表示具有常数近似比的问题类。
- PTAS:表示具有无限接近 1 的常数近似比的问题类。
- 问题分类结果 :
- 最大化问题(MAX) :对于有洞或无洞多边形的最大化艺术画廊问题是 APX - 难的,同时具有常数近似比,因此是 APX - 完全的。
- 最小化问题 :
- 有洞多边形(MIN holes):是 log n - 难的,具有$O(log n)$近似比,因此是 log n - 完全的。
- 无洞多边形(MIN without holes):是 APX - 难的,具有$O(log n)$近似比,但不知道是否有常数近似比或是否是 log n - 难的。
下面用表格总结艺术画廊问题的分类情况:
| 问题类型 | 近似难度 | 近似比 | 完全性 |
| ---- | -
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