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15、用于IP盗版防护安全系统的石墨烯对称场效应晶体管与硅纳米线场效应晶体管
本文探讨了基于石墨烯对称场效应晶体管(SymFET)和硅纳米线场效应晶体管(SiNW FET)的新兴纳米电子技术在硬件安全领域的应用。重点分析了两种器件的结构、工作原理、电气特性及其在IP盗版防护、电路伪装、侧信道攻击防御和逻辑加密等方面的优势。尽管面临面积较大、动态功耗高等挑战,这些技术凭借极性可调、低静态功耗和非布尔计算潜力,展现出超越传统CMOS的安全性能。文章还展望了其在未来集成化设计、技术融合及物联网等领域的广泛应用前景。原创 2025-10-08 02:40:19 · 40 阅读 · 0 评论 -
14、纳米整流器:现状与未来展望
本文综述了纳米整流器的研究现状与未来发展方向,探讨了半导体技术缩放面临的挑战及高速材料如III-V族化合物和石墨烯在纳米电子器件中的应用。重点分析了四端弹道整流器(FTBR)和三端结(TTJ)的工作原理、性能影响因素及其在数字与模拟电路中的应用,并介绍了基于石墨烯的G-TTJ和G-FTBR整流器的最新进展。展望未来,纳米整流器在热电发电、能量收集、高频通信和成像等领域具有广阔应用前景。原创 2025-10-07 16:37:34 · 41 阅读 · 0 评论 -
13、用于安全应用的光电探测器:原理、类型与应用
本文综述了用于安全应用的光电探测器的工作原理、关键类型及其在不同光谱范围内的应用。重点介绍了半导体光电探测器的基本要求、常用材料(如Si、Ge、InGaAs、HgCdTe和石墨烯)以及光电导效应与光伏效应等核心机制。详细分析了p-n结、p-i-n、雪崩光电探测器(APD)、金属-半导体-金属(MSM)结构、量子阱/量子点及势垒型探测器的结构与性能特点,并系统阐述了响应度、量子效率、比探测率、噪声等效功率等关键性能参数。文章还探讨了紫外、可见光和红外光电探测器在环境监测、军事侦察、热成像和光纤通信等领域的广泛原创 2025-10-06 10:56:19 · 42 阅读 · 0 评论 -
12、太赫兹技术与硅微加工:原理、挑战与应用
本文综述了太赫兹技术的基本原理、应用潜力及面临的挑战,重点探讨了硅微加工在太赫兹无源组件设计与制造中的关键作用。文章分析了太赫兹频段的大气衰减特性及其在通信、生物医学、天文学等领域的应用前景,并详细介绍了基于DRIE工艺的双晶圆制造流程。通过Hammerstad-Bekkadal和Huray模型研究了表面粗糙度对导体性能的影响,设计并模拟了WR-2.2和WR-3.4波导结构下的多种无源器件,包括功率分配器、定向耦合器、多孔分支线耦合器和H面扇形喇叭天线。结果表明,硅微加工技术具备高精度、高纵横比和批量制造优原创 2025-10-05 13:17:38 · 65 阅读 · 0 评论 -
11、量子点细胞自动机编码器电路与纳米结构蜂窝贴片天线研究
本文研究了量子点细胞自动机(QCA)编码器电路与纳米结构蜂窝贴片天线的原理、设计及性能优势。QCA编码器通过极化传输信息,具备低功耗、高集成度和逻辑灵活性,适用于未来纳米级电子系统;而基于光子晶体(PhC)基板的蜂窝贴片天线在太赫兹频段表现出更高的增益、方向性和更低的回波损耗,显著提升了无线通信性能。文章还分析了两种技术的关键指标、面临的挑战及未来发展方向,展示了其在高速通信、卫星系统、雷达和WiMAX等领域的广泛应用前景。原创 2025-10-04 15:15:37 · 36 阅读 · 0 评论 -
10、异质栅介质TFET源区附近介电材料对电学参数的影响
本文研究了异质栅介质隧穿场效应晶体管(HG-TFET)在源区附近采用不同高k介电材料(Al2O3、HfO2、La2O3)对器件电学性能的影响。通过TCAD仿真分析了介电材料、漏极偏置(VDS)和高k栅介质长度(Lh−k)对导通电流、关断电流、双极电流、开关比、阈值电压及热载流子效应等关键参数的影响。结果表明,使用高k材料可显著提升导通电流并降低阈值电压,但会增大关断电流和碰撞电离率,导致开关比下降和热载流子效应恶化。适当增加漏极偏置有助于提高开关比,而优化高k介质长度(如Lh−k15nm)可在导通性能与双极原创 2025-10-03 14:10:26 · 40 阅读 · 0 评论 -
9、基于SOA - MZI的纳米级光通信与多种调制格式
本文提出了一种基于半导体光放大器与马赫-曾德尔干涉仪(SOA-MZI)的纳米级全光通信系统,通过全光XOR门实现安全加密,并研究了多种调制格式(如PSK、QPSK、DQPSK和DPSK)对系统性能的影响。系统在10 Gbps至100 Gbps不同数据速率下进行仿真分析,评估了误码率(BER)、Q因子和消光比等关键指标。结果表明,差分调制格式特别是DPSK在误码率、抗干扰能力和光谱效率方面表现最优,适合用于高比特率、低功耗的纳米级光通信系统。该研究为未来高速、安全的全光网络提供了有效的技术参考。原创 2025-10-02 10:36:41 · 29 阅读 · 0 评论 -
8、基于医疗物联网的RFID安全协议综述
本文综述了基于医疗物联网的RFID安全协议研究现状,介绍了RFID技术的基本原理及其在医疗领域的广泛应用。文章分析了当前医疗物联网系统中存在的隐私与安全问题,特别是后端服务器的数据泄露风险和各类网络攻击威胁。通过对多种基于椭圆曲线密码学(ECC)的RFID认证协议(如Chunhua Jin、Zhang和Qi、Zhao、Shehzad Ashraf Chaudhry、K. Fan及Shaohao Xie等方案)的对比分析,揭示了现有协议在抵御标签冒充、服务器欺骗、重放攻击、拒绝服务、信息泄露等方面的优缺点。同原创 2025-10-01 14:07:35 · 32 阅读 · 0 评论 -
7、物理不可克隆函数(PUF):硬件安全的前沿探索
物理不可克隆函数(PUF)利用制造过程中的固有随机性,为硬件安全提供了一种前沿解决方案。本文全面探讨了PUF的历史背景、核心特性、分类方法、典型设计及其在身份认证、密钥存储、防伪和安全检测等领域的广泛应用。同时分析了PUF面临的主要攻击类型,如重放攻击、机器学习建模和侧信道攻击,并提出了相应的防护策略。文章还讨论了PUF在可靠性、基础设施支持和标准化方面的挑战与未来机遇,展示了其在物联网时代保障设备安全的重要潜力。原创 2025-09-30 09:17:53 · 60 阅读 · 0 评论 -
6、忆阻器:提升硬件/软件安全的新型器件
忆阻器作为一种新型非易失性电子器件,凭借其独特的物理特性如非易失性、工艺变化敏感性和双向性,在硬件与软件安全领域展现出巨大潜力。本文综述了忆阻器在物理不可克隆函数(PUF)、公共PUF(PPUF)、真随机数生成器(TRNG)、篡改检测、数字取证、加密存储、神经形态安全系统以及混沌通信等安全应用中的架构与操作机制。基于忆阻器的安全解决方案具有高密度、低功耗、抗辐射和难于逆向工程等优势,有望成为下一代信息安全技术的核心组件。原创 2025-09-29 14:01:45 · 76 阅读 · 0 评论 -
5、忆阻器及其应用:原理、类型与多领域应用探索
本文系统介绍了忆阻器的原理、发展历史、类型、建模方法及其在多个领域的应用。从Chua教授1971年提出理论到2008年HP实验室实现固态器件,忆阻器展现出非易失性、工艺变化、双向性等独特特性。文章详细阐述了其在非易失存储、图像识别、射频天线及硬件安全中的关键应用,包括物理不可克隆函数(PUF)、真随机数生成、唯一签名、篡改检测和数字取证等,并通过流程图与对比表格深入分析各类应用场景。尽管面临速度与标准化挑战,忆阻器在NVRAM、神经形态计算和安全领域仍具有广阔前景,未来将在人工智能与高密度低功耗系统中发挥重原创 2025-09-28 14:02:54 · 78 阅读 · 0 评论 -
4、硅烯和锗烯纳米带在互连应用中的研究
本文系统研究了硅烯和锗烯纳米带在纳米级互连中的应用潜力。通过边缘氧化/氢化功能化和Au/Ag替代掺杂调控其电子与输运特性,结合第一性原理计算分析了结合能、带隙、费米速度等关键参数,并评估了量子电阻(RQ)、动电感(LK)和量子电容(CQ)等互连性能指标。研究表明,O终止显著增强结构稳定性并提升金属性,尤其O-ZGeNR-O表现出最优互连性能;掺杂位置对性能有决定性影响,E-ZGeNR在偏置电压下展现出高可靠性。未来可通过多样化掺杂、缺陷工程和金属接触优化进一步推动其在低功耗、高安全性下一代集成电路中的应用。原创 2025-09-27 15:10:29 · 29 阅读 · 0 评论 -
3、垂直 T 形异质结隧道场效应晶体管:低功耗安全系统的新选择
本文介绍了一种新型的垂直T形异质结隧道场效应晶体管(TFET),作为传统MOSFET的替代方案,适用于低功耗和高安全性集成电路应用。通过引入SiGe异质结和高k栅介质(HfO₂),该器件实现了低于60 mV/decade的亚阈值斜率和高达10¹¹的开/关电流比,有效抑制了短沟道效应和双极传导。结合TCAD仿真,研究了其在反相器电路中的电压传输特性,并探讨了其在电流模式逻辑(CML)和硬件安全(如PUF、RNG)中的应用潜力,展示了在‘超越摩尔’时代下的优异性能与集成前景。原创 2025-09-26 15:02:32 · 33 阅读 · 0 评论 -
2、新型垂直隧道 FET 及其在混合模式中的应用
本文综述了新型垂直隧道场效应晶体管(TFET)的工作原理、电气特性及其在混合模式电路中的应用。TFET基于量子力学带间隧穿(BTBT)机制,突破传统MOSFET的亚阈值摆幅限制,实现低于60mV/decade的陡峭开关特性,适用于超低功耗集成电路。文章详细分析了TFET的结构设计、物理机制及关键性能参数,并探讨了栅极工程、材料工程和掺杂工程等多种性能提升技术。重点比较了多种垂直TFET架构,其中锗源δ掺杂层垂直TFET表现出优异的开态电流、极低关态电流和陡峭亚阈值斜率。此外,混合模式下的TFET逆变器展现出原创 2025-09-25 15:40:52 · 57 阅读 · 0 评论 -
1、新兴纳米电子器件:原理、挑战与应用前景
本文系统探讨了新兴纳米电子器件的原理、挑战与应用前景。从传统MOSFET及其面临的短沟道效应问题出发,介绍了无结(JLT)和无掺杂晶体管(DLT)等新型器件架构,分析了其在抑制短沟道效应、降低功耗和简化制造工艺方面的优势。同时深入讨论了陡斜率器件如TFET(包括化学掺杂、无结和无掺杂类型)的工作机制与性能特点,指出其在超低功耗应用中的巨大潜力。文章还总结了各类器件在亚阈值斜率、开态/关态电流、制造复杂度等方面的性能对比,并展望了未来发展趋势,包括器件架构创新、多器件集成、智能化应用及与量子技术的融合,为下一原创 2025-09-24 16:08:05 · 35 阅读 · 0 评论
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