1.1 晶体
半导体晶体
(1)定义
一种基于特定单胞规则重复的结构,可填充所有空间。
(2)晶胞
通过规则重复来构造晶体的单位。
(3)晶格参数
单位晶胞的重复长度
(4)GaAs的晶格常数

(5)Si与GaAs的带隙结构
- Si:间接带隙结构
- GaAs:直接带隙结构
1.2 化合物半导体
化合物半导体材料III-V族元素
(1)III族
Al、Ga、In
(2)V族
N、P、As、Sb
(3)IV族(用于光电探测器)
Si、Ge
声子(phonon)
由于动量守恒,在E-k图上垂直跃迁间接带隙需要额外的动量,通常来自晶格振动产生的声子,因此间接跃迁是三粒子过程。
光子的吸收与辐射

有效质量近似(重点)
(1)动量与动能公式
- 动量:p=ℏkp=\hbar kp=ℏk
- 动能:E=p22m0=ℏ2k22m0E=\frac{p^{2}}{2 m_{0}}=\frac{\hbar^{2} k^{2}}{2 m_{0}}E=2m0p2=2m0ℏ2k2
(2)有效质量下的动能
E=ℏ2k22m∗E=\frac{\hbar^{2} k^{2}}{2 m^{*}}E=2m∗ℏ2k2
(3)有效质量倒数
1m∗=1ℏ2[d2Edk2]\frac{1}{m^{*}}=\frac{1}{\hbar^{2}}\left[\frac{d^{2} E}{d k^{2}}\right]m∗1=ℏ21[dk2d2E]
直接带隙半导体的截止波长
λg( microns )=hce1Eg(eV)≅1.24Eg(eV)\lambda_{g(\text { microns })}=\frac{h c}{e} \frac{1}{E_{g(e V)}} \cong \frac{1.24}{E_{g(e V)}}λg( microns )=ehcEg(eV)1≅Eg(eV)1.24
态密度(DOS)
(1)能量态密度
单位晶体体积中单位能量中的态数
(2)方晶体边长
Lx=NxaLy=NyaLz=NzaL_x=N_xa\\L_y=N_ya\\L_z=N_zaLx=NxaLy=NyaLz=Nza
(3)晶体体积
V=LxLyLzV=L_xL_yL_zV=LxLyLz
(4)空间周期性
ψk(x+Lx,y,z)=ψk(x,y+Ly,z)=ψk(x,y,z+Lz)=ψk(x,y,z)\psi_{k}\left(x+L_{x}, y, z\right)=\psi_{k}\left(x, y+L_{y}, z\right)=\psi_{k}\left(x, y, z+L_{z}\right)=\psi_{k}(x, y, z)ψk(x+Lx,y,z)=ψk(x,y+Ly,z)=ψk(x,y,z+Lz)=ψk(x,y,z)
或表示为:
exp(ikx(x+Lx))=exp(ikxx)\exp \left(i k_{x}\left(x+L_{x}\right)\right)=\exp \left(i k_{x} x\right)exp(ikx(x+Lx))=exp(ikxx)
(5)边界条件
exp(ikxLx)=1\exp \left(i k_{x} L_{x}\right)=1exp(ikxLx)=1
(6)量子化结论
kx=0,±2πLx,±4πLx,±6πLx,……±NxπLxk_{x}=0, \pm \frac{2 \pi}{L_{x}}, \pm \frac{4 \pi}{L_{x}}, \pm \frac{6 \pi}{L_{x}}, \ldots \ldots \pm \frac{N_{x} \pi}{L_{x}}kx=0,±Lx2π,±Lx4π,±Lx6π,……±LxNxπ
k空间允许态

点表示允许存在的态,厚度为dk的环用于计算态密度。
态密度结论
(1)波矢与能量的微分关系
dkdE=122m∗ℏ21E\frac{d k}{d E}=\frac{1}{2} \sqrt{\frac{2 m^{*}}{\hbar^{2}}} \frac{1}{\sqrt{E}}dEdk=21ℏ22m∗E1
(2)态密度形式的方程及1/2次幂结论
g(E)dE=g(k)d3k=2(2π)34πk2dkg(E) d E=g(\mathbf{k}) d^{3} \mathbf{k}=\frac{2}{(2 \pi)^{3}} 4 \pi k^{2} d kg(E)dE=g(k)d3k=(2π)324πk2dk
g(E)dE=12π2(2m∗ℏ2)3/2E1/2g(E) d E=\frac{1}{2 \pi^{2}}\left(\frac{2 m^{*}}{\hbar^{2}}\right)^{3 / 2} E^{1 / 2}g(E)dE=2π21(ℏ22m∗)3/2E1/2
不同自由度下的态密度函数g(E)g(E)g(E)

半导体统计学电子分布
(1)Fermi-Dirac分布函数(靠近费米能级)
fe(E,T)=11+exp(E−EFkBT)f_{e}(E, T)=\frac{1}{1+\exp \left(\frac{E-E_F}{k_{B} T}\right)}fe(E,T)=1+exp(kBTE−EF)1
(2)Maxwell-Boltzman分布(远离费米能级)
fM−B(E,T)=Aexp(−EkBT)f_{M-B}(E, T)=A \exp \left(\frac{-E}{k_{B} T}\right)fM−B(E,T)=Aexp(kBT−E)
其中,A=exp(EFkBT)A=\exp \left(\frac{E_F}{k_{B} T}\right)A=exp(kBTEF)
(3)单位能量间隔的电子数量
n(E)=f(E,T)g(E)n(E)=f(E, T) g(E)n(E)=f(E,T)g(E)
(4)系统总电子数
N=∫f(E,T)g(E)dEN=\int f(E, T) g(E) d EN=∫f(E,T)g(E)dE
(5)费米能级
EF=ℏ22m∗(3π2N)2/3E_{F}=\frac{\hbar^{2}}{2 m^{*}}\left(3 \pi^{2} N\right)^{2 / 3}EF=2m∗ℏ2(3π2N)2/3
费米积分
F(x)=∫0∞y1/21+exp(y−x)dyF(x)=\int_{0}^{\infty} \frac{\mathrm{y}^{1 / 2}}{1+\exp (\mathrm{y}-\mathrm{x})} d yF(x)=∫0∞1+exp(y−x)y1/2dy
能量态简并
指具有给定能量的不止一个量子态。
掺杂材料中的载流子浓度
电子浓度
ne=ncexp[−(εc−μ)/τ]n_{e}=n_{c} \exp \left[-\left(\varepsilon_{c}-\mu\right) / \tau\right]ne=ncexp[−(εc−μ)/τ]
空穴浓度
nh=nvexp[−(μ−εv)/τ]n_{h}=n_{v} \exp \left[-\left(\mu-\varepsilon_{v}\right) / \tau\right]nh=nvexp[−(μ−εv)/τ]
电离施主浓度
nd+=nd1+2exp(μ−εd)/τn_{d}^{+}=\frac{n_{d}}{1+2 \exp \left(\mu-\varepsilon_{d}\right) / \tau}nd+=1+2exp(μ−εd)/τnd
电离受主浓度
na−=na1+2exp(εa−μ)/τn_{a}^{-}=\frac{n_{a}}{1+2 \exp \left(\varepsilon_{a}-\mu\right) / \tau}na−=1+2exp(εa−μ)/τna
电中性方程
n−=ne−+na−=n+=nh++nd+n^{-}=n_{e}^{-}+n_{a}^{-}=n^{+}=n_{h}^{+}+n_{d}^{+}n−=ne−+na−=n+=nh++nd+
掺杂能级
εd=εg−Δεd\varepsilon_{d}=\varepsilon_{g}-\Delta \varepsilon_{d}εd=εg−Δεd
重掺杂方程组
Nd+=Nd(1−fD(E))=Nd1+e(Ef−Ed)/kTn=Nd++p=Nd++ni2nn=Nce−(Ec−Ef)/kT\begin{array}{l} N_{d}^{+}=N_{d}\left(1-f_{D}(E)\right)=\frac{N_{d}}{1+e^{\left(E_{f}-E_{d}\right) / k T}} \\ n=N_{d}^{+}+p=N_{d}^{+}+\frac{n_{i}^{2}}{n} \\ n=N_{c} e^{-\left(E_{c}-E_{f}\right) / k T} \end{array}Nd+=Nd(1−fD(E))=1+e(Ef−Ed)/kTNdn=Nd++p=Nd++nni2n=Nce−(Ec−Ef)/kT
掺杂剂
- n型掺杂剂:引入更多的电子
- p型掺杂剂:引入更多的空穴

本文详细介绍了半导体晶体的基本概念,如晶胞结构、晶格参数、带隙性质,以及化合物半导体中III-V族元素的应用。着重讨论了声子和光子的吸收,有效质量近似,以及费米-狄拉克和麦克斯韦-玻尔兹曼分布在电子统计学中的作用。此外,文章还涵盖了掺杂材料中的载流子浓度模型,包括掺杂能级和掺杂效应的数学表达式。
657

被折叠的 条评论
为什么被折叠?



