介孔中的分子动力学研究
在介孔环境中,分子的运动展现出许多独特的现象,这些现象对于理解分子在受限空间中的行为至关重要。下面将详细探讨介孔中分子动力学的相关内容。
介孔中分子扩散的基本特性
在介孔中,分子扩散具有一些特殊的规律。当分子在孔壁上的客体分子层内扩散时,后续通过气相的分子位移通常是不相关的,这与在不受限空间中的情况类似。随着温度升高,会出现两种现象:
- 气相分子数量增加 :在封闭样品中,温度升高会使气相中的分子数量不断增加,而孔系统内的分子数量相应减少。这可能导致孔空间内出现高浓度和低浓度区域,从而观察到受限扩散现象。
- 达到超临界状态 :样品内的流体相最终会达到超临界状态。有趣的是,在孔中达到这种状态的温度明显低于在本体中的温度。而且,这种转变对本体相分子迁移率的影响比在孔空间中更为显著,这是因为孔壁限制了分子的平均自由程。
通道孔中的分子动力学
表面分子扩散
具有明确圆柱形孔结构的多孔硅片为分子扩散研究开辟了新领域,即测量硅表面的分子扩散。虽然之前对沸石中客体分子的PFG NMR扩散研究也关注分子在孔壁影响下的传播,但在介孔硅中,孔尺寸明显大于典型扩散剂(如丙酮和环己烷)的直径。在负载低于单分子层且温度足够低的情况下,扩散分子会附着在一个几乎无限延伸的表面上。由于NMR光谱的灵敏度相对较低,在普通表面上进行这种测量是不可能的,但多孔硅样品的大内表面允许使用足够高样品密度的扩散剂,从而使测量成为可能。
以正庚烷在具有直通道孔的硅片内表面的扩散为例,随着负载增加,扩散率增大,这与扩散的活化能随负载增加而降低
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