半导体逻辑电路技术解析
1. 双极型逻辑电路技术
1.1 发射极耦合逻辑(ECL)
发射极跟随器晶体管 T3 和 T4 有助于实现极快的开关时间,同时提供低输出阻抗驱动能力,并调整输出电压电平,以驱动其他类似电路。不过,由于 ECL 电压摆幅小且功耗高,除了在最快的大型计算机和一些极其专业的高速应用中,它并未得到广泛使用。
1.2 集成注入逻辑技术(I2L)
- 发展背景 :20 世纪 70 年代开发 I2L 是为了创建一种比现有 TTL 电路功耗更低、封装密度更高的双极逻辑系列。相关发展还包括氧化物隔离集成注入逻辑(I3L)、集成肖特基逻辑(ISL)和肖特基晶体管逻辑(STL)。这些双极技术未用于标准现货产品,但在一些定制 IC 产品中有所应用。
- 电路结构与工作原理 :基本 I2L 门电路中,晶体管 T1 是横向 pnp 器件,T2 是垂直多集电极器件,二者制造合并为一体。T1 作为“注入器”提供恒定电流,作为 T2 的基极输入,除非该电流被施加到栅极输入端子的低电压(逻辑 0)信号吸收。当作为 T2 基极输入电流时,T2 导通,每个集电极输出作为低电阻接地;无基极输入时,集电极开路。该电路具有反相作用,基于电流吸收而非常见的电压信号,是单输入多输出逻辑门,需通过输出公共化实现特定逻辑功能。
- 制造与性能特点 :I2L 采用标准平面外延方法制造,垂直晶体管反向工作,n 型外延层作为 T2 的发射极。除 RE 外消除所有电阻,使 I2L 门封装密度高。通过调整注入电流 IB(改变 RE
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