关于ENVI5.6中掩膜工具的变化（Build Mask、Apply Mask）

在使用遥感影像进行反演等工作的时候，常常需要用到“掩膜”处理。
ENVI5.3中提供了“Build Mask”工具创建掩膜区域，在ENVI5.6中变更为“Build Raster Mask”工具。
创建掩膜区域后，还需要应用掩膜。在ENVI5.3中使用“Apply Mask”，将创建好的掩膜应用于图像中。该工具在ENVI5.6中被删除，我们可以使用以下方法替代：
File→Save as→Save as（ENVI,EITF,TIFF,DTED），在Data Selection里面有一个Mask按钮，可以实现掩膜的应用。