芯片测试的几个术语及解释(CP、FT、WAT)

本文详细介绍了半导体行业中的WAT、CP及FT测试流程及其各自的作用。WAT用于监控生产工艺稳定性,CP测试则在晶圆阶段剔除不良芯片,减少封装成本,同时为封装后的FT测试打下基础。

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CP

是把坏的

Die

挑出来,可以减少封装和测试的成本。可以更直接的知道

Wafer

的良率。

 

FT

是把坏的

chip

挑出来;检验封装的良率。

8 % 

现在对于一般的

wafer

工艺,很多公司多吧

CP

给省了;减少成本。

 

 

CP

 

对整片Wafer的每个Die来测试

 

而FT

 

则对封装好的Chip来测试。

 

CP

 

Pass

 

才会去封装。然后FT,确保封装后也Pass。

 

 

WAT

Wafer Acceptance Test

,对专门的测试图形(

test key

)的测试,通过电参数来监

控各步工艺是否正常和稳定;

 

 

CP

wafer level

chip probing

,是整个

wafer

工艺,包括

backgrinding

backmetal

if 

needed

),对一些基本器件参数的测试,如

vt,Rdson,BVdss,Igss,Idss

等,一般测试

机台的电压和功率不会很高;

 

FT

packaged chip level

Final Test

,主要是对于这个(

CP passed

IC

Device

片应用方面的测试,有些甚至是待机测试;

 

Pass FT

还不够,还需要作

process qual

product qual 

CP

测试对

Memory

来说还有一个非常重要的作用,

那就是通过

MRA

计算出

chip level

Repair 

address

,通过

Laser Repair

CP

测试中的

Repairable die

修补回来,这样保证了

yield

reliability

两方面的提升。

 

 

CP

是对

wafer

进行测试

,

检查

fab

厂制造的工艺水平

 

FT

是对

package

进行测试

,

检查封装厂制造的工艺水平

 

对于测试项来说

,

有些测试项在

CP

时会进行测试

,

FT

时就不用再次进行测试了

,

节省了

FT

测试时间

;

但是有些测试项必须在

FT

时才进行测试

(

不同的设计公司会有不同的要求

一般来说,

CP

测试的项目比较多,比较全;

FT

测的项目比较少,但都是关键项目,条件严

格。但也有很多公司只做

FT

不做

CP(

如果

FT

和封装

yield

高的话,

CP

就失去意义了

)

 

在测试方面,

CP

比较难的是探针卡的制作,并行测试的干扰问题。

FT

相对来说简单一点。

还有一点,

memory

测试的

CP

会更难,因为要做

redundancy analysis,

写程序很麻烦。

 

 

CP

在整个制程中算是半成品测试,

目的有

2

个,

1

个是监控前道工艺良率,

1

个是降低后

道成本(避免封装过多的坏芯片),其能够测试的项比

FT

要少些。最简单的一个例子,碰

到大电流测试项

CP

肯定是不测的(探针容许的电流有限),这项只能在封装后的

FT

测。

 

不过许多项

CP

测试后

FT

的时候就可以免掉不测了(可以提高效率),所以有时会觉得

FT

的测试项比

CP

少很多。

 

 

应该说

WAT

的测试项目和

CP/FT

是不同的。

CP

不是制造(

FAB

)测的

!

% Q) `8

CP

的项目是从属于

FT

的(也就是说

CP

测的只会比

FT

少)

,项目是完全一样的;不同的

是卡的

SPEC

而已;

因为封装都会导致参数漂移,

所以

CP

测试

SPEC

收的要比

FT

更紧以确保

最终成品

FT

良率。

还有相当多的

DH

wafer

做成几个系列通用的

die

CP

时通过

trimming

来定向确定做成其系列中的某一款,

这是解决相似电路节省光刻版的最佳方案;

所以除非你

公司的

wafer

封装成

device

是唯一的,且

WAT

良率在

99%

左右,才会盲封的。

 

据我所知盲封的

DH

很少很少,风险实在太大,不容易受控。

 

 

WAT:wafer level

的管芯或结构测试

- `" t 

CP:wafer level

的电路测试含功能

FT:device level

的电路测试含功能

 

CP = chip probing. 

FT= FInal Test.

, Y. A6 s 

CP 

一般是在测试晶圆,

封装之前

封装后都要

FT

的。

不过

bump wafer

是在装上锡球,

probing 

后就没有

FT.

' s4 E$ r1 

FT 

是在封装之后,也叫

终测

。意思是说测试完这道就直接卖去做

application. 

CP 

prober, probe card

FT 

handler, socket.

CP 

比较常见的是

room temperature = 25

,FT 

可能一般就是

75

90

 

CP

没有

QA buy-off

 

FT 

 

 

CP 

两方面

 

1.

 

监控工艺

.

所以呢,觉得

probe

实际属于

FAB

范畴

 

2.

 

控制成本。

financial g ate

。我们知道

FT

封装和测试成本是芯片成本中比较大的一部分,

所以把次品在

probe

reject

掉或者修复,最有利于控制成本

 

FT: 

终测通常是测试项最多的测试了,有些客户还要求

3

温测试,成本也最大。

 

至于测试项呢,

 

1.

 

如果测试时间很长,

CP

FT

又都可以测,

trim

项,

加在

probe

能显著降低时间成本,

当然也看客户要求。

 

2.

 

关于大电流测试呢,

FT

多些,但是我在

probe

也测过十几安培的功率

mosfet,

一个

PAD

上十多个

needle

 

3.

 

有些

PAD

会封装到

DEVICE

内部,

FT

是看不到的,

所以有些测试项只能在

CP

直接测,

像功率管的

GATE

端漏电流测试

Igss

1 E+ T

 

 

CP

测试主要是挑出坏

die

,修补

die

,然后保证

die

在基本的

spec

内,

function well.

1 X* t 

FT

测试主要是

package

完后,保证

die

在严格的

spec

内能够

function.

CP

的难点在于,如何在最短的时间内挑出坏

die,

修补

die

 

FT

的难点在于,如何在最短的时间内,保证出厂的

Unit

能够完成全部的

Function

 

<think>嗯,用户这次明确要求了解半导体后道工艺的英语术语,结合了之前关于中文术语解释。看来用户可能是工程师或学生,需要中英对照的参考资料。之前回答里提到过薄膜沉积、金属化等概念,这次要特别注意补充对应的英文术语。 注意到用户引用了站内资料[1],虽然内容主要是foundry的定义,但说明用户关注行业术语的权威性。需要把后道工艺各环节的标准英文名称整理出来,包括工艺步骤、设备名称和测试方法。 用户特别强调“常用”术语,说明要过滤掉生僻词汇,聚焦高频核心术语。比如CMP(化学机械抛光)比更专业的ECP(电化学镀铜)更重要。封装环节的BGA、CSP等缩写必须包含。 上次回答的金属化部分提到铝/铜材料,这次对应补充Al/Cu metallization的术语测试环节的CPFT测试是行业通用缩写,需要明确全称。晶圆减薄的wafer thinning和backgrinding也要区分说明。 考虑到用户可能用于工作文档或学习,准备按工艺流程序列术语:从BEOL互连开始,到研磨切割,最后封装测试。每个术语加中文注释,像“RDL(重布线层)”这样中英对照更实用。 最后生成的问题要延续技术深度,比如询问铜互连的英文技术名词,或封装类型的国际标准缩写。这样用户能继续深入某个子领域。</think>以下是半导体后道工艺(BEOL)常用英语术语及其中文解析,涵盖制造流程、设备及测试环节: --- ### **核心工艺术语** 1. **Back-End-of-Line (BEOL)** - 后道工序:晶圆完成晶体管制造后的互连与封装阶段。 2. **Chemical Mechanical Polishing (CMP)** - 化学机械抛光:通过化学腐蚀与机械研磨实现晶圆表面平坦化。 3. **Thin Film Deposition** - 薄膜沉积: - **Physical Vapor Deposition (PVD)**:物理气相沉积(如溅射铝层) - **Chemical Vapor Deposition (CVD)**:化学气相沉积(如沉积 $SiO_2$ 绝缘层) 4. **Metallization** - 金属化: - **Dual Damascene**:双镶嵌工艺(铜互连主流技术) - **Electroplating**:电镀(用于铜导线填充) 5. **Annealing** - 退火: - **Rapid Thermal Annealing (RTA)**:快速热退火(修复晶格缺陷) 6. **Wafer Thinning** - 晶圆减薄: - **Back Grinding**:背面研磨(将晶圆减薄至 $100 \mu\text{m}$ 以下) - **Chemical Etching**:化学蚀刻(提高表面质量) 7. **Die Preparation** - 芯片制备: - **Dicing/Singulation**:切割(将晶圆分离为独立芯片) - **Die Attach**:芯片贴装(将芯片固定至封装基板) --- ### **封装与测试术语** 8. **Packaging** - 封装: - **Wire Bonding**:引线键合(金/铝线连接芯片与基板) - **Flip Chip**:倒装芯片(通过焊球直接连接) - **Ball Grid Array (BGA)**:球栅阵列封装 - **Chip Scale Package (CSP)**:芯片级封装 9. **Testing** - 测试: - **Wafer Acceptance Test (WAT)**:晶圆允收测试 - **Chip Probing (CP)**:晶圆测试(针测) - **Final Test (FT)**:成品测试(封装后功能验证) - **Burn-in Test**:老化测试(高温高压筛选缺陷) --- ### **关键材料与结构** | 英文术语 | 中文解释 | 应用场景 | |------------------|------------------------------|-----------------------------------| | **Redistribution Layer (RDL)** | 重布线层 | 芯片与封装引脚间的电气重分布 | | **Underfill** | 底部填充胶 | 加固倒装芯片焊点,防止机械应力 | | **Mold Compound**| 塑封料 | 保护芯片免受环境侵蚀 | | **Solder Ball** | 焊球 | BGA封装的外部电气连接点 | --- ### **工艺缺陷与可靠性** - **Electromigration (EM)** 电迁移:大电流导致金属原子迁移,引发断路(铜比铝抗电迁移性强)[^1] - **Delamination** 分层:材料界面分离(如RDL与塑封料间) - **Kirkendall Void** 柯肯达尔空洞:不同金属扩散速差异导致的空洞缺陷 --- ### 总结 后道工艺核心英文术语聚焦**互连技术**(如Dual Damascene, RDL)、**封装形式**(Flip Chip, BGA)及**可靠性验证**(EM, Burn-in)。掌握这些术语对理解国际技术文档至关重要,例如Foundry的BEOL流程报告常标注关键参数: $$ R_c < 10^{-8} \Omega \cdot \text{cm}^2 \quad \text{(铜互连接触电阻标准)} $$ [^1]
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