光刻曝光能量和功率

最新推荐文章于 2025-01-30 19:00:14 发布
最新推荐文章于 2025-01-30 19:00:14 发布
阅读量4.5k 收藏 4
点赞数 2
CC 4.0 BY-SA版权
分类专栏： 光刻
版权声明：本文为博主原创文章，遵循 CC 4.0 BY-SA 版权协议，转载请附上原文出处链接和本声明。
本文链接：https://blog.youkuaiyun.com/ocean1171597779/article/details/78907710

最近用NR9-3000PY和AZ703，看到了一个参数mJ/cm^2。
参考激光光源，基本上都是毫瓦级别，假设1mW均匀照射到一个1cm^2的区域上，那么光强就是1mW/cm^2。如果要达到100mJ/cm^2，需要100s。
那么问题来了，我们的光刻机的汞灯是多少纳米的光呢？光强又是多少呢？

芯片制造技术之：光刻与曝光技术
AI天才研究院
10-14 564
作者：禅与计算机程序设计艺术 1.背景介绍 光刻与曝光（Light-Sheeting and Exposure）是当前对高分子集成电路芯片尺寸、面积和精度等方面的一个关键技术。在该领域中，许多技术开发者从多个角度探讨了最佳的光刻与曝光技术，并提出了有助于改进芯片制造技术的理论、方法和工具。随着集成电
芯片 Chip 制造技术之：深紫外光刻 Lithography 与极紫外 Lithography 光刻
AI天才研究院
09-24 3584
在当今数字时代,芯片已成为现代电子设备的核心组件,支撑着从智能手机到超级计算机的各种应用。芯片制造技术的进步直接影响着电子产品的性能、功耗和成本。其中,光刻技术作为芯片制造的关键环节,一直是半导体行业研究和投资的重点领域。光刻技术的本质是利用光学成像原理,将集成电路设计图形通过光学系统投影到涂有光刻胶的晶圆上,从而实现纳米级精度的图形转移。随着摩尔定律的不断推进,传统光刻技术面临着分辨率极限的挑战。
曝光机与曝光能量_LDI曝光机能量均匀性检测方法与流程
weixin_39904116的博客
12-20 9096
本发明涉及LDI曝光机性能检测技术领域，尤其是涉及一种LDI曝光机能量均匀性检测方法。背景技术：LDI(laser direct imaging，激光直接成像技术)曝光机主要用于PCB(Printed Circuit Board，印制电路板)生产中的曝光工序，其是通过激光扫描的方法直接将图像在PCB上成像，图像更精细。然而，目前的LDI曝光头及曝光头连接处均存在能量差异，若差异过大，则曝光形成的线...
曝光机与曝光能量_多重曝光技术
weixin_29238147的博客
01-01 2797
一般来说，我们可以通过某种芯片制造过程中用到的Mask的数量来评价其工艺的复杂度，例如，一般的工艺可能需要约20道光罩，复杂的高端工艺可能需要高达60道左右的光罩。制造工艺流程被分为前段 (FEOL) 和后段 (BEOL) ，前段主要是MOS管的制造，后段是互连电路的搭建。不管是前段还是后段，其基本工艺流程都是镀膜-涂光刻胶-曝光-显影-刻蚀（离子注入）-去胶这样的循环。图形化工艺流程示意图主流的...
cmos全局曝光算法_卷帘曝光与全局曝光
weixin_39690391的博客
11-08 1148
卷帘曝光卷帘曝光全局曝光全局曝光算法组/撰文胡佳琪/排版///////////////////通常我们在网上买到的摄像头都是卷帘曝光的摄像头，在日常使用时很难看出这两种摄像头的区别，但是在对速度要求高的领域这两种曝光方式的优劣就很明显了，尤其是对于廉价的摄像头卷帘曝光的果冻效应更加明显。除了果冻效应外，全局曝光的摄像头在低曝光时间的情况下的颜色饱和度更高，在实际测试比较中发现同样将曝光值...
曝光机与曝光能量_亚微米i线投影曝光机曝光能量积分和快门控制系统
weixin_35785090的博客
01-12 538
亚微米i线投影曝光机曝光能量积分和快门控制系统主要介绍了亚微米ｉ线投影曝光机上使用的曝光能量积分快门控制系统。论述了新(本文共5页)阅读全文>>进入"微时代"后,新媒体对员工的影响越来越深刻,其中的"负能量"影响不容小觑。企业如何引导员工树立正确的价值观,让"正能量"在企业...(本文共2页)阅读全文>>相对运动是十分复杂的力学问题,而力学问题常可以从能量方面较简便地解决。...
曝光机与曝光能量_LED曝光机
weixin_42499800的博客
12-29 6752
当前位置：首页 > 新闻中心LED曝光机发布：admin 浏览：3813次紫外光固化油墨(UVcurableink)又称UV油墨，是指在一定波长的紫外光的照射下，油墨组分发生交联反应，从液态转变为固态完成固化的油墨。UV固化油墨相对于传统的溶剂型油墨，主要的特点就是快干、环境友好、节能。一、PCB感光油墨感光波段UV曝光灯的光谱波长范围：即UV曝光灯的分光感度范围一定要与UV油墨相匹配。一...
针对ASML的EUV光刻机技术难点的详细分析
百态老人的博客
01-30 1561
EUV光刻机的光源需要产生波长极短（13.5纳米）的极紫外光，其能量仅为传统DUV光源的1/14。ASML采用激光轰击液态锡靶产生等离子体的方式生成EUV光，但这一过程效率极低，仅有约0.02%的激光能量转化为可用的EUV光。ASML通过激光轰击液态锡靶的LPP技术，实现了EUV光刻机的商业化，但其核心依赖于精密机械控制、极端条件下的材料科学及复杂系统集成能力。每一步技术的突破均涉及物理极限的挑战（如原子级镜面加工、飞秒级时序控制），这也是ASML垄断EUV市场的根本原因。
行业分类-设备装置-直写式光刻系统中采用灰度方式提高曝光图形质量的方法.zip
08-30
而在SLL系统中，激光功率被调制以改变照射到光刻胶上的能量。这两种方法都能提供灰度曝光能力，但具体选择哪种取决于应用场景和设备性能。 采用灰度曝光技术的优势包括： 1. 提高分辨率：通过精确控制光强，可以...
光刻机（NIKON）的设计与结构
01-27
后来为了提高分辨率，采用了新的光源：laser，分为 Krf(248nm)和 Arf（193nm)，laser 也是不断在增加功率，现在最高的可以达到 60kw 级别了（相当恐怖的激光能量）。 为什么要发展大功率的汞灯和激光呢？这是产能的...
附件-光刻机知识汇总（结构原理、行业发展及阿斯麦ASML专利）
04-14
光源决定曝光能量和波长，直接影响分辨率；投影系统由物镜和掩模构成，负责将图形放大并精确投射到硅片上；对准系统确保每次曝光时硅片与掩模的位置准确无误；扫描系统则控制硅片在曝光过程中按预定路径移动。 二、...
曝光机与曝光能量_曝光机工作原理_科视
weixin_39972151的博客
12-20 5499
曝光机是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术 ，在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造。曝光机即电子串曝光机，是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。曝光机基本工作原理：在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从...
曝光的基本原理
热门推荐
happy08god的专栏
03-14 1万+
以下内容，摄像头或者图像处理的行业人士或许才有点兴趣。 曝光的基本原理 人眼对观察到的亮度变化是一种对数压缩规律。比如亮度为1000烛光/平方米的一个东西，和亮度为500烛光/平方米的一个东西，虽然他们亮度相差500，人眼认为他们亮度差一倍。比如亮度为10烛光/平方米的一个东西，和亮度为5烛光/平方米的一个东西，虽然他们亮度相差只有5，人眼认为他们亮度也差一倍。这种对数压缩使我们既能看清楚亮度...
曝光机与曝光能量_X射线曝光曲线的制作、核查与一般使用方法
weixin_34043280的博客
12-04 3713
X射线曝光射线的制作X射线曝光曲线必须通过试验制作，且每台X射线探伤机的曝光曲线各不相同，不能通用。因为即使管电压、管电流相同，如果不是同一台X射线探伤机，其线质和照射率是不同的。以曝光量—厚度(E—T)曲线的制作为例，制作过程如下：(1)制作准备选择固定的X射线机型号及编号(如定向XXG 2005/01)、固定的胶片(如AgfaD7)、固定材料及厚度的增感屏(如Pb 0.03mm×2)...
使用负性光刻胶NR9-3000PY光刻石墨烯
数理文章
05-05 1226
使用紫外光刻制作石墨烯微米带，光刻胶为负性胶NR9-3000PY。
SU-8 光刻胶曝光时间的确定
SemiconductorPhysics
10-14 2155
SU-8 光刻胶曝光时间的确定
山东大学网络空间安全学院竞学实训课程报告.zip
09-08
山东大学网络空间安全学院竞学实训课程报告.zip
zhaorenjie110_SymmetricEncryptionAndDecryption_39740_1757320627449.zip
09-08
zhaorenjie110_SymmetricEncryptionAndDecryption_39740_1757320627449.zip
Maven 3.9.11 zip压缩格式，windows系统中解压即用
最新发布
09-08
Maven 3.9.11 zip压缩格式，windows系统中解压即用
DMD光刻
08-27
<think>嗯，用户这次询问的是DMD光刻技术，这是一个相当专业的微纳加工领域。从用户提问的精确性来看，ta应该具备一定的光学或半导体背景知识，可能是工程师或研究人员。用户明确要求解释技术原理、应用场景、设备和工艺流程四方面内容，说明ta需要系统性的技术综述。 注意到用户提供的参考引用主要涉及DMD器件特性（引用2）、空间光调制应用（引用1）和光学系统组成（引用5），这些恰好是构建DMD光刻知识体系的核心要素。特别是引用2中关于DMD微镜阵列的机械结构和调制原理的描述，需要重点融入技术原理部分的解释。 在组织回答时，应该采用从基础到应用的逻辑结构：先阐明DMD的核心工作机制（呼应引用2的微镜控制原理），再说明如何将其转化为光刻图形化工具（结合引用1的空间调制特性），最后延伸到实际工业应用。对于工艺流程部分，需要特别注意区分无掩模直写光刻与传统光刻的差异点，这点用户可能特别关注。 用户没有明确说明应用场景的侧重方向，但考虑到引用4提到工业检测和医疗成像等拓展领域，在应用场景部分除了介绍主流的微光学器件制造，还应补充科研和原型开发等场景。设备选型方面，引用5提到的532nm激光光源参数值得融入曝光系统说明。 技术难点部分虽然用户未直接询问，但作为完整的技术综述应当包含，特别是DMD微镜尺寸导致的分辨率限制问题（这与引用3中微型显示屏的制造挑战有共通性）。最后生成的三个相关问题既覆盖了技术深化（多镜面同步），也包含产业应用（光刻胶选择），还涉及前沿发展（双光子聚合），形成梯度式提问结构。</think>### DMD光刻技术详解 #### **技术原理** DMD（数字微镜器件）光刻是一种**无掩模直写光刻技术**，其核心原理是通过控制微镜阵列的空间调制实现图形化曝光： 1. **微镜控制**：每个微镜（尺寸通常为$7.6 \mu m$）独立偏转$ \pm 12^\circ$，将入射光反射至曝光路径（开）或吸收器（关）[^2]。 2. **空间光调制**：通过编程控制微镜开关序列，动态生成**二进制光强分布**（$I(x,y)$），直接替代传统光刻掩模板。 3. **光学系统**：激光光源（如$532nm$绿光[^5]）经扩束后照射DMD，调制后的光束经缩微投影透镜聚焦到基片表面，实现微米级图形转移。 #### **应用场景** - **快速原型开发**：适用于科研和小批量生产，无需制作昂贵掩模板。 - **微光学器件制造**：如衍射光学元件（DOE）、微透镜阵列。 - **柔性电子**：在曲面或柔性基板上直写图形（如OLED显示电路）。 - **生物芯片加工**：微流控通道、生物传感器图案化。 - **定制化光刻**：航天器件、特种传感器等小批量定制需求。 #### **核心设备组成** | 组件 | 功能 | 典型参数 | |------|------|----------| | **DMD芯片** | 空间光调制 | 微镜数量：$10^4 - 10^6$，尺寸$7.6-13.7\mu m$ | | **激光光源** | 提供曝光能量 | 波长$365-532nm$，功率$100mW-10W$ | | **投影物镜** | 图形缩微成像 | 缩微比$4:1-10:1$，NA$0.1-0.6$ | | **精密位移台** | 基片定位 | 分辨率$ \leq 0.1\mu m$，行程$ \geq 200mm$ | | **控制系统** | 同步微镜与位移 | 刷新率$ \geq 10kHz$[^1] | #### **工艺流程** ```mermaid graph TD A[基片预处理] --> B[涂覆光刻胶] B --> C[软烘] C --> D[DMD图形曝光] D --> E[位移台步进] E --> F[显影] F --> G[后烘/刻蚀] G --> H[最终结构] ``` 1. **图形切片**：将设计文件分解为微镜可显示的二进制帧序列。 2. **动态曝光**：DMD按帧刷新图形（$ \geq 10,000$帧/秒[^1]），位移台步进移动基片。 3. **拼接精度控制**：通过**重叠曝光**和**位置反馈**消除拼接缝（误差$ \leq 0.5\mu m$）。 4. **显影与转印**：常规光刻胶处理，或直接用于激光直写加工（如激光烧蚀）。 #### **技术优势与局限** - **优势**： - 无掩模成本，设计更改灵活 - 支持非平面基板曝光（曲面补偿算法） - 高吞吐量（高速DMD刷新[^1]） - **局限**： - 分辨率受微镜尺寸限制（通常$ \geq 2\mu m$） - 光学畸变需精密校准 - 深紫外曝光实现难度高 > **关键技术突破**：最新研究通过**相位调制叠加**（如GS算法）提升分辨率至亚微米级，并利用**双光子聚合**实现纳米结构直写[^1]。 --- ###
评论
添加红包

请填写红包祝福语或标题

个

红包个数最小为10个

元

红包金额最低5元

当前余额3.43元 前往充值 >
需支付：10.00元
成就一亿技术人!
领取后你会自动成为博主和红包主的粉丝 规则
hope_wisdom
发出的红包
实付元
使用余额支付
点击重新获取
扫码支付
钱包余额 0

抵扣说明：

1.余额是钱包充值的虚拟货币，按照1:1的比例进行支付金额的抵扣。
2.余额无法直接购买下载，可以购买VIP、付费专栏及课程。

余额充值