半导体行业-SECS/GEM协议 JAVA与SECS/GEM通信 S2F17获取时间 Springboot集成SECS/GEM通信协议

本文介绍了在JAVA中使用SECSS10F3和S2F17功能,通过实例展示了如何利用SpringBoot进行通信,获取并显示实时时间。通过Ajax调用/S2F17接口获取数据。
<think>我们正在讨论SECS/GEM协议在CDS设备控制中的具体消息类型。根据之前的上下文,我们知道SECS/GEM半导体设备自动化中的通信协议,特别是在CDS(化学沉积设备)中。SECS/GEM协议定义了一系列标准消息,这些消息分为不同的流(Stream)和函数(Function),每个消息都有唯一的编号(如S1F1)。以下是一些在CDS设备控制中常用的消息类型: ### SECS/GEM协议消息类型(按功能分类) #### 1. **设备状态监控(状态报告)** - **S1F1 / S1F2**: 在线请求(Are You There?)和响应。用于确认设备是否在线。 - **S1F3 / S1F4**: 通信建立请求和响应。 - **S6F11 / S6F12**: 事件报告(Event Report)。设备主动上报事件(如工艺开始、结束、报警等)[^1]。 - 例如:CDS设备在沉积工艺开始时发送`S6F11`,含事件ID和参数(如配方名、晶圆ID)。 - **S1F17 / S1F18**: 请求设备状态(Request Equipment Status)和响应。返回设备当前状态(如IDLE、RUNNING、PAUSED等)。 #### 2. **配方管理** - **S2F13 / S2F14**: 配方请求(Recipe Request)和传输。EAP系统向CDS设备请求当前可用的配方列表。 - **S2F15 / S2F16**: 配方上传/下载。将配方参数(如沉积时间、温度、气体流量)从EAP传输到CDS设备或反之[^1]。 - 示例:EAP发送`S2F15`下载配方“SiN_1000A”到CDS设备。 #### 3. **工艺控制** - **S2F41 / S2F42**: 工艺启动(Process Program Start)请求和响应。EAP触发CDS设备开始特定配方工艺。 - **S2F29 / S2F30**: 设备指令(Device Command)。发送控制指令(如启动/暂停/继续/停止)。 - 例如:`S2F29`发送指令`START`启动沉积。 #### 4. **数据采集** - **S6F3 / S6F4**: 数据采集请求(Data Collection Request)和响应。EAP主动获取设备变量(Variable)或数据项(Data Item)的值。 - 例如:请求沉积腔室实时温度(变量名为`ChamberTemp`)。 - **S1F3 / S1F4**: 报警报告(Alarm Report)。设备上报报警信息(如真空泄漏、温度超限)。 #### 5. **晶圆加工管理** - **S12F1 / S12F2**: 晶圆映射(Wafer Map)传输。CDS设备向EAP报告晶圆槽位的占用情况和晶圆ID。 - **S14F1 / S14F2**: 晶圆处理(Wafer Process)。用于晶圆进出设备的跟踪。 ### 消息交互示例(CDS设备沉积过程) ```mermaid sequenceDiagram participant EAP participant CDS EAP->>CDS: S2F15 [下载配方参数] CDS-->>EAP: S2F16 [确认接收] EAP->>CDS: S2F41 [启动工艺] CDS-->>EAP: S2F42 [确认启动] CDS->>EAP: S6F11 [事件:工艺开始] CDS->>EAP: S6F11 [事件:工艺结束] EAP->>CDS: S6F3 [请求沉积厚度数据] CDS-->>EAP: S6F4 [返回厚度=1000Å] ``` ### 关键数据格式 SECS消息使用**结构化数据项(Item)** 编码,常见类型括: - `A`:ASCII字符串(如配方名) - `B`:二进制数据 - `I4`:4字节整数(如温度值) - `F8`:8字节浮点数(如沉积速率) - `List`:嵌套列表(如配方参数列表) 例如,配方下载消息(`S2F15`)的数据结构: ```plaintext <L [3] <A "RecipeID"> # 配方ID <A "SiN_1000A"> # 配方名称 <L [4] # 参数列表 <I4 300> # 温度(℃) <I4 60> # 时间(秒) <F8 50.5> # 气体A流量(sccm) <F8 120.2> # 气体B流量(sccm) > > ``` --- §§相关问题§§ 1. SECS/GEM协议中如何定义设备变量(Variable)和数据项(Data Item)? 2. CDS设备在工艺异常时通过哪些SECS消息上报错误? 3. EAP系统如何通过SECS/GEM实现CDS设备的配方版本控制? 4. HSMS协议SECS-I协议在实时性上有何差异? 5. 如何配置CDS设备的SECS/GEM通信参数(如端口、超时时间)? 6. SECS/GEM协议如何保证CDS设备通信的安全性? [^1]:引用来源:SECS/GEM协议标准文档(www.secsgem.cn) </think>### SECS/GEM协议在CDS设备控制中的具体消息类型 SECS/GEM协议通过标准化的消息流(Stream)和功能(Function)实现CDS设备控制,主要消息类型如下: #### 1. **设备状态监控** - **S1F1/S1F2**(在线请求/响应) EAP系统发送`S1F1`询问CDS设备是否在线,CDS设备回复`S1F2`确认状态 示例:$$ \text{S1F1: <L[0]>} \quad \rightarrow \quad \text{S1F2: <L[0]>} $$ - **S1F3/S1F4**(通信建立请求/响应) 初始化TCP/IP连接时协商通信参数[^1] - **S6F11/S6F12**(事件报告) CDS设备主动上报异常事件(如真空泄漏、温度超限等) #### 2. **工艺控制** - **S2F41/S2F42**(工艺启动请求/响应) EAP下发沉积配方启动指令: $$ \text{S2F41: <A "RecipeID"> <L[工艺参数列表]>} $$ - **S2F29/S2F30**(设备命令) 远程控制设备动作(如腔室门开关、气体阀调节) #### 3. **配方管理** - **S2F13/S2F14**(配方请求/传输) EAP获取CDS设备存储的配方列表: $$ \text{S2F14: <L[ <A "Recipe1">, <A "Recipe2">,... ]>} $$ - **S7F19/S7F20**(配方参数下载) 传输沉积参数:温度$T$, 压力$P$, 气体流量$\dot{V}$等 #### 4. **数据采集** - **S6F3/S6F4**(数据收集请求/响应) 实时获取传感器数据(如膜厚$d$、沉积速率$r$) 示例:$$ \text{S6F4: <L[ <I4 350>, <F4 0.5> ]>} \quad (\text{温度}350^\circ\text{C}, \text{速率}0.5\text{nm/s}) $$ - **S1F17/S1F18**(设备常量请求) 读取设备固有参数(如腔室容积$V_c$) #### 5. **晶圆管理** - **S12F1/S12F2**(晶圆映射传输) 报告晶圆位置和ID: $$ \text{S12F2: <L[ Slot1: <A "WaferID123">, Slot2: <A "EMPTY">,... ]>} $$ - **S14F1/S14F2**(晶圆处理记录) 传输工艺结果数据(如膜厚均匀性$\sigma$) #### 6. **报警管理** - **S5F1/S5F2**(报警报告/确认) 设备主动上报报警代码(如`ALCD-102: 压力异常`) ```mermaid graph LR A[EAP系统] -->|S2F41 启动沉积| B(CDS设备) B -->|S6F11 工艺开始| A B -->|S6F3 请求实时数据| A A -->|S6F4 返回温度/速率| B B -->|S6F11 工艺完成| A ``` ---
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