半导体的δ掺杂与宽渐变势阱研究
1. 半导体的δ掺杂技术
半导体的δ掺杂技术在半导体器件的开发和生产中具有巨大潜力,但在充分利用该技术之前,仍面临诸多挑战和问题需要解决。半导体物理学领域之所以如此吸引人,就在于不断的研究投入、新的研究成果、意外的发现以及研究过程中的兴奋感,同时该技术也能在半导体集成电路的开发和生产中更高效地处理和分配信息。
许多研究人员在该领域做出了贡献,例如作者受益于与AT&T贝尔实验室同事的合作,并对T. Y. Chang、T. H. Chiu等多位同事表示感谢。以下是部分相关研究的列举:
|作者|发表年份|期刊|内容|
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|Abe, M.等|1986|IEEE J. Quant. Electron. QE - 22|相关研究成果在该期刊第1870页发表|
|Abernathy, C. R.等|1989|Appl. Phys. Lett. (Oct. 23)|具体研究内容发表于该期刊对应日期|
|Abramowitz, M.等|1972|Handbook of Mathematical Functions|编辑了该数学函数手册|
这些研究涵盖了从基础理论到实际应用的多个方面,为半导体δ掺杂技术的发展奠定了基础。
2. 宽渐变势阱的引入
随着原子层外延晶体生长技术的出现,成分渐变半导体结构的研究和应用得到了迅速发展。通过定制半导体的成分分布,可以显著改变其电学和光学性质。渐变结构,即成分分布逐渐变化的结构,其光学和电子性质对分布轮廓尤为敏感,能够带来一系列新的现象(在太赫兹波段),从而扩展了成分突变结构
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