纳米金刚石弱电子发射及罕见皮肤病多光谱图像研究
纳米金刚石弱电子发射研究
在纳米金刚石研究中,单个纳米金刚石(ND)颗粒内的捕获位点数量可能过少,难以引起材料电学性质的显著变化,这使得用微观方法检测变得困难。不过,电荷检测灵敏度的问题可通过外逸电子发射光谱法或剂量测定法解决。这种方法中,外逸电子发射源于加热过程,该过程能激发表层原子的电子,使其能量达到阈值后发射出来。为增加发射电子数量,引入光子源可给表面带来额外能量,且不会对电子探测器造成更多风险。
实验部分
- 样品制备 :选用合成的纳米金刚石粉末(来自Adams Nano,140 nm原始DND -15 mV,Zeta 2.0%灰分),用改良模具和液压机在5巴压力下压制,得到高度小于1毫米的片剂,这样片剂结构更坚固,便于后续实验操作。
- 测量与辐射过程 :在BINI实验室用外逸电子发射分光光度计进行光致发射(PE)和光热刺激发射(PTSE)测量,该仪器能处理这两种测量,工作于6.58 × 10⁻⁶ atm的高压系统;辐射过程在拉脱维亚肿瘤中心进行,使用“VARIAN TrueBeam”线性加速器对所有样品进行电子束辐照。
| 实验步骤 | 具体操作 |
|---|---|
| 样品制备 | 合成纳米金刚石粉末压制为片剂 |
| 测量 | BIN |
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