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简介
Flux.1模型的基础能力已经很强,但是局部生成、控制生成等方面仍不足,bfl随进一步训练,开发了Flux.1 Tools系列模型,包含四个模型,具体情况如下。
- Fill:根据文本描述和二进制掩码编辑或扩展输入图像,即Inpainting和Outpainting,是一个基模型
- Redux:一个能对输入图片进行细微变化或调整的Adapter模型,可以和所有Flux.1基模型组合使用
- Depth:可接受条件图像的深度信息控制生成图片,有基模型或lora模型
- Canny:可接受条件图像的canny线条信息控制生成图片,有基模型或lora模型
Fill
与常规的painting模型相同,Flux.1 Fill dev模型基于Flux.1 dev全量微调而来,并且因为掩码图片mask的引入,flux backbone的in_channels参数与Flux.1 dev初始化时不同。Flux.1 Fill dev模型采样时的图片特征具体构建步骤是,先将条件图片和掩码图片(可认为通道数为1)的像素值归一化,然后将条件图片和掩码图片耦合得到条件图片,即确定选区,然后使用VAE的编码器从条件图片中提取条件特征向量,假设像素空间中图片的尺寸为 [ H , W , 3 ] [H,W,3] [H,W,3],那么条件特征相邻的尺寸为 [ H 8 , W 8 , 16 ] [\frac{H}{8},\frac{W}{8},16] [8H,8W,16];再对条件特征向量进行分块、离散为序列,即将其划分为 2 ∗ 2 2*2 2∗2的patch并拉长为序列,尺寸变为 [ H 16 , W 16 , 64 ] [\frac{H}{16},\frac{W}{16},64] [16H,16W,64]。此外,掩码图片mask也应该包含在输入中,对于mask并没有进行编码进行特征提取,故为了保证其能与离散后的特征向量在最后一个维度拼接,直接将其尺寸转换为 [ H 16 , W 16 , 256 ] [\frac{H}{16},\frac{W}{16},256] [16H,

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