UML概述

本文介绍了UML的基本概念,包括其组成元素如事物、关系和图,并解释了它们在软件开发生命周期各阶段的应用,例如需求分析阶段使用用例图,详细设计阶段使用类图等。

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UML概述
作者:zccst
一、神马是UML?
是一种面向对象的思想
UP:统一过程。Rational UP过程图。
也可以引进极限编程
极限编程(Extreme Programming):不断沟通、修改。一些概念:
(1)TDD:用例驱动Junit就是一个单元测试,成本比较高。
(2)重构:类里的一个方法转到另一个。Eclipse比较容易实现。
(3)持续集成:一开始就可运行,然后逐步增强。客户可以参与进来,越早提出问题越好。
对比瀑布模型。

二、UML包括内容
UML包括
1,事物
(1)结构:类、接口、构件、节点等
(2)行为:交互(消息),状态等。
(3)分组:包、子系统
(4)注释:注释

2,关系
(1)关联
(2)依赖
(3)泛化 抽象 --> 一般
(4)实现 implement

3,图
(1)用例图。系统管理员——管理用户。
(2)包图。
(3)交互图。描述交互过程。时序图和协助图
(4)类图。类图关系
(5)活动图:是一个流程。在流程中每一个环节都有哪些判断。
(6)状态图。比如校园一卡通:白卡——正常状态——冻结状态(丢)——注销状态(张三去掉)——回收状态
页面流程变化:添加界面——打开界面——成功或失败
爱得宝:订单状态图

4,扩展机制


三、图的分类(按重要程度)
1,静态建模
类图

2,动态建模
用例图
时序图
活动图
状态图


四、不同阶段使用不同的图
绪论:
相关技术:
需求分析:用例图,协作图
概要设计:包图,组件图,配置图
详细设计:状态图,时序图,类图
测试:
内容概要:本文系统介绍了基于C#(VS2022+.NET Core)与HALCON 24.11的工业视觉测量拟合技术,涵盖边缘提取、几何拟合、精度优化及工业部署全流程。文中详细解析了亚像素边缘提取、Tukey抗噪算法、SVD平面拟合等核心技术,并提供了汽车零件孔径测量、PCB焊点共面性检测等典型应用场景的完整代码示例。通过GPU加速、EtherCAT同步等优化策略,实现了±0.01mm级测量精度,满足ISO 1101标准。此外,文章还探讨了深度学习、量子启发式算法等前沿技术的应用前景。 适合人群:具备一定编程基础,尤其是熟悉C#和HALCON的工程师或研究人员,以及从事工业视觉测量与自动化检测领域的技术人员。 使用场景及目标:①学习如何使用C#和HALCON实现高精度工业视觉测量系统的开发;②掌握边缘提取、抗差拟合、3D点云处理等核心技术的具体实现方法;③了解工业部署中的关键技术,如GPU加速、EtherCAT同步控制、实时数据看板等;④探索基于深度学习和量子计算的前沿技术在工业视觉中的应用。 其他说明:本文不仅提供了详细的理论分析和技术实现,还附有完整的代码示例和实验数据,帮助读者更好地理解和实践。同时,文中提到的硬件选型、校准方法、精度验证等内容,为实际项目实施提供了重要参考。文章最后还给出了未来的技术演进方向和开发者行动建议,如量子-经典混合计算、自监督学习等,以及参与HALCON官方认证和开源社区的建议。
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