5、物理不可克隆函数：硬件指纹解决方案

物理不可克隆函数：硬件指纹解决方案

1. 不同技术的 PUF 发展

随着 CMOS 技术的不断发展，物理不可克隆函数（PUF）的构建技术也在不断演变。早期的 PUF 电路主要基于平面金属 - 氧化物 - 半导体场效应晶体管（MOSFET），但随着技术的缩小，短沟道效应严重影响了 MOSFET 晶体管的性能。为了继续缩小 CMOS 技术，FinFET 被引入以取代二维（平面）MOSFET。

• FinFET 基 PUF
  • 技术背景 ：英特尔在 2011 年使用 22 - nm FinFET 制造了 Ivy Bridge 处理器，证明了 FinFET 的可行性。在 PUF 研究领域，FinFET 最近才开始被探索。
  • 研究成果 ：
    • Zhang 等人研究了使用 FinFET 技术构建 SRAM - PUF 的可行性，发现其具有小尺寸和更好的随机性，SUVs 可靠性为 88%（由于 CMOS 噪声导致 12% 的比特错误）。
    • Narasimham 等人分析了使用 28 - nm 高 - k 金属栅（HKMG）平面 MOSFET 和 16 - nm FinFET 工艺构建的 SRAM - PUF 的质量和可靠性。结果表明，FinFET 显示出比平面 MOSFET 更好的随机性，但更易受老化影响，比特错误率略高。

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