本文介绍了大规模数字设计的特点，从设计流程、标准单元库、库交换格式文件（LEF）和EDA工具等方面展开。数字设计的发展遵循摩尔定律，依赖于EDA工具自动化完成，涉及Verilog HDL、标准单元库、P&R工具等。标准单元库包含逻辑门、时序单元等功能和参数信息，LEF文件则提供版图抽象化的关键信息。数字设计强调时序分析、自动化和工艺节点的先进性。
引言
博主之前做的事情基本是在Cadence Virtuoso里手动搭电路，画Schematic，做DC、Tran仿真，手动画版图，基本上类似于模拟电路的设计流程。而大规模数字设计和模拟设计有很大的不同，所以在这篇文章里先简单介绍一下数字设计的特点。
关键词：数字设计 标准单元库 LEF EDA
数字设计的发展
Apple 前段时间发布的 M1 Ultra SoC芯片基于5 nm工艺节点，内部总共集成了 1,140 亿只晶体管，这是一个非常惊人的数字。回顾处理器的发展，人类历史上第一款商用的CPU就是大名鼎鼎的4004 1，这款处理器发布于1971年，集成了2250个晶体管，主要由Federico Faggin手工设计。1965年戈登摩尔提出了著名的摩尔定律，处理器的集成度也沿着摩尔定律的指引飞速发展，很快人们会发现大规模的设计靠手动是不可能的，所以EDA工具也随之快速发展，数字电路的设计也越来越依赖于EDA工具。
数字设计基础
设计流程
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