集成电路工艺原理
- 集成电路(Integrated Circuit, IC),俗称芯片
是指把具有一定功能的电路所需的半导体、电阻、电容等元件以及他们之间的连接导线全部集成在一小块衬底上,然后封装在一个管壳内的电子器件。由德州仪器公司Jack Kilby和仙童半导体公司Robert Noyce分别于1958年和1959年独自发明
Chap1 半导体产业介绍
一、集成电路产业介绍
1.半导体产业概况
数据来源:https://www.qianzhan.com/analyst/detail/220/210128-d64091cc.html
2.集成电路生产流程图
3.各部分产业特点
4.集成电路产业构成
集成器件供应商(Integrated Device Manufacture, IDM)
IMD模式(垂直制造)集芯片设计、芯片制造、芯片封装和测试等多个产业链环节于一身;早期多数集成电路企业采用的模式,目前仅有极少数企业能够维持
- 主要优势:设计、制造等环节协同优化,有助于充分发掘技术潜力,能有条件率先实验并推行新的半导体技术
- 主要劣势:公司规模庞大,管理成本较高,运营费用较高,资本回报率较低
代工厂(Foundry)
只负责制造、封装或测试其中一个环节,不负责芯片设计,可以同时为多家设计公司提供服务
- 主要优势:不承担由于市场调研不准、产品设计缺陷等决策风险
- 主要劣势:投资规模较大,维持生产线正常运作费用较高;需要持续投入维持工艺水平,一旦落后追赶难度较大
无工厂芯片供应商(Fabless)
只负责芯片的电路设计与销售,将生产、测试、封装等环节外包,如华为海思、紫光展讯、中兴微电子、华大半导体、国网智芯、兆易创新、豪威科技、士兰微电子、中星微电子、瑞迪科微电子、大唐电信、比特大陆、寒武纪、平头哥、达摩院、灵汐科技、燧原科技
- 主要优势:资产较轻,初始投资规模小,创业难度相对较小;企业运行费用较低,转型相对灵活
- 主要劣势:与IDM相比无法与工艺协同优化,因此难以完成指标严苛的设计;与Foundry相比需要承担各种市场风险,一旦失误可能万劫不复
二、集成电路发展趋势
整体趋势/发展目标
降低芯片成本;提高芯片性能;提高芯片可靠性
趋势一:特征尺寸减小
特征尺寸是芯片上最小的物理尺寸,是衡量工艺难度的标志,也被称作关键尺寸
- CMOS的特征尺寸为晶体管栅长
- DRAM的特征尺寸为1/2间隙
工艺制程升级放缓:130nm制程之后,已经无法仅通过几何尺寸缩小获得性能提升了,每个工艺节点都需要引入新的工艺技术
趋势二:晶圆尺寸(Wafer Size)增大
300nm晶圆比200nm晶圆面积大2.25倍,可以把每块晶片(Die)的成本减少30%
通过缩小芯片尺寸,可以降低芯片在制作过程中被沾污的概率