增材制造中的扫描策略、疲劳裂纹与寿命预测研究
1. LP - DED 扫描策略影响研究
在 LP - DED(激光粉末定向能量沉积)制造立方体的过程中,采用的扫描策略对表面粗糙度、残余应力和微观结构有着显著影响。
1.1 表面粗糙度
表面粗糙度方面,顶面的粗糙度高于侧面。具体数据如下表所示:
|扫描策略|侧面粗糙度(μm)|顶面粗糙度(μm)|
| ---- | ---- | ---- |
|0 - 90°扫描策略|约 21|约 33|
|0 - 67°扫描策略|18 - 27|约 29|
1.2 残余应力
对于残余应力,两种扫描策略下顶面的残余应力相近,但使用 0 - 90°扫描策略制造的立方体侧面观察到更高的应力值。
1.3 微观结构
微观结构上,使用 0 - 67°扫描策略时观察到粗晶结构。
mermaid 流程图如下:
graph LR
A[扫描策略] --> B[表面粗糙度]
A --> C[残余应力]
A --> D[微观结构]
B --> B1[顶面粗糙度高]
B --> B2[侧面粗糙度低]
C --> C1[顶面应力相近]
C --> C2[0 - 90°侧面应力高]
D --> D1[0 - 67°粗晶结构]
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