都知道台积电的工艺控制好,好在哪里?

本文通过对比台积电(TSMC)和联华电子(UMC)在28nm HPC+工艺的signoff标准,揭示了台积电在芯片工艺控制上的优势。台积电的derating设置较小,表明其工艺一致性更好,而工艺控制的优劣直接影响芯片性能和良率。尽管设计余量是必要的,但过多的余量可能使优秀设计变得平庸。总体而言,台积电在晶圆代工领域的领先地位得到了印证。

芯片行业的人都知道,台积电在芯片制造方面的实力。不仅仅是它有更先进的工艺,还在于对于同样制程的工艺,它的工艺控制也是最好的。

苹果曾经同时采用三星和台积电对其芯片进行代工,台积电的芯片有明显优势,以至于苹果为了让它的手机性能保持一致性,人为降低台积电版本的性能。

怎么能直观的比较两个foundary厂的工艺控制优劣呢?其实我们可以通过两者的signoff的标准对比中看出来。

下面我们比较一下umc和tsmc。同样是28nm hpc+工艺。

tsmc的signoff标准如下:

5a7d272cbd4dd83c2e2267dca6d7123c.png

umc的signoff标准如下:

f1521b5e893c3a4ceabf9e4f3499bc6d.png

我们可以看到,相同的电压,同样的corner下,umc的derating设置,要远远大于tsmc。

为什么会有这样的区别呢?derating,uncertainty都属于设计余量,其实就是为了覆盖掉不同芯片之间的工艺偏差,提高良率。如果工艺控制的好,一致性好,那么这部分余量就不需要那么多。反之,如果工艺一致性差,那么只能在设计中加大设计余量了。

额外的设计余量,可能导致的是一款优秀的设计,变成一个中庸的设计。

当然,芯片设计不存在完美,只有是否合适。还是要看需求,性能,成本的综合考虑。

不过,从工艺角度来说,台积电确实不愧是晶圆代工行业一哥。

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