MOS晶体管中Si形成立方晶格,Si的外围电子与周围的4个Si原子的电子之间形成共价键,电子被束缚住,因此导电能力很弱。 但可通过掺杂(dopant atom)其他原子的方法大幅提高导电性。
如掺杂As、B
掺杂不同的原子可得到不同类型的激子:p-positive 空穴导电 n-negative 电子导电
nMOS的主要结构

P→N 正向偏压 N→P反向偏压 nMOS管由 栅极(gate)、源极(source)、漏极(drain)、衬底(substrate)构成,栅极与衬底之间有一层很薄的SiO2绝缘层,三者之间可形成电容。

nMOS的等效电路

V1=VGS


本文介绍了MOS晶体管中Si的共价键结构导致的低导电性,以及通过掺杂As、B等原子提高导电性的方法。重点讲解了nMOS管的结构,包括栅极、源极、漏极和衬底,以及它们之间的SiO2绝缘层。此外,还阐述了nMOS管的正向偏压和反向偏压状态,以及其等效电路的工作原理。

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