个人学习笔记——庄懂的技术美术入门课（美术向）06

于 2021-01-07 19:30:47 发布
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分类专栏： 庄懂的技术美术入门课(美术向)
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这篇博客主要介绍了技术美术的基础知识，包括FakeEnvLight的实现方法，通过计算冯高光并结合纹理图进行采样来创建环境光效果。此外，还讲解了如何使用兰伯特模型、SSS_TEX和高光处理来增强图像表现。最后，对BRDF进行了浅显的解释，提供了进一步学习PBR笔记的链接。

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个人学习笔记——庄懂的技术美术入门课（美术向）06

1 作业点评

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  • 点评基础题都没有问题，这个创意题做了个葡萄，会讲
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  • 二组点评也没问题，例子会讲
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  • 也没问题，会讲例子
  • 透明那个以为是透明，其实是调的和背景色一样，以后做真正的透明
    在这里插入图片描述
  • 也是没有问题

2 作业批改

2.1 FakeEnvLight

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  • 方法是算一个冯高光，去采样一个纹理图，期间设置了采样坐标和乘数两个参数
    在此基础上又加上正常的高光

2.2 批改1

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  • 首先上半部分，一个兰伯特，重映射到0和1，乘以衰减，作为坐标去采样SSS_TEX，和基础的颜色做颜色减淡
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  • 在高光部分，得到了传统的冯高光，把底色纹理的绿通道去插值暗的高光和亮的高光
    底色纹理在绿通道做过不同处理
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    插值完以后再乘以G通道作为强度，完成后加到原来的上面去
    在这里插入图片描述

2.3 批改2

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  • 首先最上面是冯高光，不过指数项用的是其他内容
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  • 指数用的是如下节点，tile可加可不加，unity自带的tile，得到纹理之后做了个二元遮罩，用纹理插值两个高光的指数，得到结果放回到高光里
    在step里用的mask range其实就是控制纹理的大小
    在这里插入图片描述

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在二元遮罩上用lerp其实就是叠加了
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3 BRDF

庄老师这里也是比较浅显的介绍，详细也可以去看PBR的笔记
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https://github.com/wdas/brdf/downloads

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