FLASH高速PCB布局布线设计指南

FLASH高速PCB布局布线设计指南
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志博PCB
2019年1月18日
目前Flash主要有两种NOR Flash和NADN Flash…
目前Flash主要有两种NOR Flash和NADN Flash。

NOR Flash的读取和我们常见的SDRAM的读取是一样,用户可以直接运行装载在NOR FLASH里面的代码,这样可以减少SRAM的容量从而节约了成本。

NAND Flash没有采取内存的随机读取技术,它的读取是以一次读取一块的形式来进行的,通常是一次读取512个字节,采用这种技术的Flash比较廉价。

一般小容量的用NOR Flash,因为其读取速度快,多用来存储操作系统等重要信息,而大容量的用NAND FLASH,最常见的NAND FLASH应用是嵌入式系统采用的DOC(Disk On Chip)和我们通常用的”闪盘”,可以在线擦除。

NOR和NAND性能比较
FLASH闪存是非易失存储器,可以对称为块的存储器单元块进行擦写和再编程。任何flash器件的写入操作只能在空或已擦除的单元内进行,所 以大多数情况下,在进行写入操作之前必须先执行擦除。NAND器件执行擦除操作是十分简单的,而NOR则要求在进行擦除前先要将目标块内所有的位都写为 1。

由于擦除NOR器件时是以64~128KB的块进行的,执行一个写入/擦除操作的时间为5s,与此相反,擦除NAND器件是以8~32KB的块进行的,执行相同的操作最多只需要4ms。

执行擦除时块尺寸的不同进一步拉大了NOR和NADN之间的性能差距,统计表明,对于给定的一套写入操作(尤其是更新小文件时),更多的擦除操作必须在基于NOR的单元中进行。这样,当选择存储解决方案时,设计师必须权衡以下的各项因素:

● NOR的读速度比NAND稍快一些。
  ● NAND的写入速度比NOR快很多。
  ● NAND的4ms擦除速度远比NOR的5s快。
  ● 大多数写入操作需要先进行擦除操作。
  ● NAND的擦除单元更小,相应的擦除电路更少。

(注:NOR FLASH SECTOR擦除时间视品牌、大小不同而不同,比如,4M FLASH,有的SECTOR擦除时间为60ms,而有的需要最大6s。)

NAND Flash的用途
HDD是指机械硬盘,是传统普通的硬盘,包括:盘片、磁头、磁盘旋转轴及控制电机、磁头控制器、数据转接器、接口、缓存。

SDD(Solid State Drives)是固态硬盘,包括:控制单元、存储单元(DRAM芯片/FLASH芯片)。
区别:HDD是机械式寻找数据,所以防震远低于SSD,数据寻找时间也远低于SSD。

FLASH管脚定义

根据上图翻译如下:

I/O0 ~ I/O7:用于输入地址/数据/命令,输出数据。

CLE:Command Latch Enable,命令锁存使能,在输入命令之前,要先在模式寄存器中,设置CLE使能

ALE:Address Latch Enable,地址锁存使能,在输入地址之前,要先在模式寄存器中,设置ALE使能

CE#:Chip Enable,芯片使能,在操作Nand Flash之前,要先选中此芯片,才能操作

RE#:Read Enable,读使能,在读取数据之前,要先使CE#有效。

WE#:Write Enable,写使能,在写取数据之前,要先使WE#有效。

WP#:Write Protect,写保护

R/B#:Ready/Busy Output,就绪/忙,主要用于在发送完编程/擦除命令后,检测这些操作是否完成,忙,表示编程/擦除操作仍在进行中,就绪表示操作完成.

Vcc:Power,电源

Vss:Ground,接地

N.C:Non-Connection,未定义,未连接。

Nand Flash数据读取操作的时序图

①边上的黄色竖线。
黄色竖线所处的时刻,是在发送读操作的第一个周期的命令0x00之前的那一刻。
让我们看看,在那一刻,其所穿过好几行都对应什么值,以及进一步理解,为何要那个值。

(1)黄色竖线穿过的第一行,是CLE。还记得前面介绍命令锁存使能(CLE)那个引脚吧?CLE,将CLE置1,就说明你将要通过I/O复用端口发送进入Nand Flash的,是命令,而不是地址或者其他类型的数据。只有这样将CLE置1,使其有效,才能去通知了内部硬件逻辑,你接下来将收到的是命令,内部硬件逻辑,才会将受到的命令,放到命令寄存器中,才能实现后面正确的操作,否则,不去将CLE置1使其有效,硬件会无所适从,不知道你传入的到底是数据还是命令了。

(2)而第二行,是CE#,那一刻的值是0。这个道理很简单,你既然要向Nand Flash发命令,那么先要选中它,所以,要保证CE#为低电平,使其有效,也就是片选有效----》CHIP ENABLE。

(3)第三行是WE#,意思是写使能。因为接下来是往nand Flash里面写命令,所以,要使得WE#有效,所以设为低电平。

(4)第四行,是ALE是低电平,而ALE是高电平有效,此时意思就是使其无效。而对应地,前面介绍的,使CLE有效,因为将要数据的是命令,而不是地址。如果在其他某些场合,比如接下来的要输入地址的时候,就要使其有效,而使CLE无效了。

(5)第五行,RE#,此时是高电平,无效。可以看到,直到后面第6阶段,才变成低电平,才有效,因为那时候,要发生读取命令,去读取数据。

(6)第六行,就是我们重点要介绍的,复用的输入输出I/O端口了,此刻,还没有输入数据,接下来,在不同的阶段,会输入或输出不同的数据/地址。

(7)第七行,R/B#,高电平,表示R(Ready)/就绪,因为到了后面的第5阶段,硬件内部,在第四阶段,接受了外界的读取命令后,把该页的数据一点点送到页寄存器中,这段时间,属于系统在忙着干活,属于忙的阶段,所以,R/B#才变成低,表示Busy忙的状态的。

FLASH参考原理图

PCB布局布线设计指南
1)布局:

(1) NAND 应靠近主控摆放;

(2)去耦电容均靠近 NAND 摆放;

(3) RE、 WE、 DQS 信号串接电阻靠近主控摆放,串阻与主控连接走线距离≤300mil;

2) 信号线走线要求:

(1) NAND 与主控走线间走线≤2000mil;

(2) 走线阻抗 50 欧;

(3)线间距≥2 倍线宽;

(4) D0~D7、 RE、 WE 相对于 DQS 做等长,控制≤300mil;

(5) D0~D7 上使用过孔的数量尽量相同;

(6)务必保证走线参考平面完整;

(7)走线尽量避开高频信号;

(8) VCC/VCCQ 线宽不小于 12mil,或直接使用敷铜代替电源走线;电源线上如有过孔,则过孔数量不少于 2 个,避免过孔限流影响供电;

FLASH实战案例展示

<think>我们正在讨论NorFlash存储器的特点和版图设计。根据用户提供的引用和之前的对话,我们可以总结NorFlash的特点,并重点分析其版图设计的特点。NorFlash的特点:1.可以进行字节寻址,因此程序可以在NorFlash中运行(引用[1])。2.读取速度较快(几十到两百纳秒),但写入速度较慢(十到五十微秒)(引用[2])。3.每个存储单元直接连接在位线和字线上,每个单元独立,因此读取速度比NANDFlash稍快(引用[3])。版图设计特点:由于NorFlash的存储单元是独立连接的,其版图设计会与NANDFlash有很大不同。我们可以从以下几个方面分析:1.**存储单元阵列结构**:-NorFlash的存储单元是并行连接的,每个单元直接连接到位线和字线。因此,在版图上,每个存储单元都需要独立的位线和字线连接,这会导致大量的金属连线。-与NANDFlash的串联结构(引用[4])不同,NorFlash的阵列结构类似于一个网格,每个单元位于字线和位线的交叉点。2.**位线和字线布局**:-由于每个单元独立连接,位线和字线的数量会随着存储容量的增加而线性增长,这会导致布线复杂。-为了减少布线延迟,高层金属(如Metal3以上)通常用于全局位线和字线布线,以降低RC延迟。3.**外围电路布局**:-NorFlash需要大量的译码电路(行译码和列译码)来选择特定的单元。这些译码器通常放置在存储阵列的周围,以缩短字线和位线的长度。-由于NorFlash支持随机访问,其灵敏放大器设计尤为重要,用于快速读出数据。灵敏放大器需要对称布局,并采用模拟地(AGND)隔离以减少噪声(引用[2]中提到的AGND应用)。4.**工艺特点**:-NorFlash单元通常采用浮栅晶体管,在版图上需要特殊的层(如浮栅多晶硅)和隔离结构。-由于浮栅的存在,单元之间需要足够的隔离(如STI或场氧隔离)以防止干扰。5.**电源和接地**:-与之前讨论的存储器类似,NorFlash也需要强化的电源网络。特别是在编程和擦除时,需要较高的电压(如12V),因此高压器件需要隔离环(ISORing)和专门的电源网络(引用[2]中提到的PGND)。6.**验证规则**:-由于浮栅结构,设计规则检查(DRC)需要特别关注浮栅与相邻层的间距,以及高压器件的规则。-电学规则检查(ERC)要确保没有浮空的栅极,以及编程/擦除电压路径的正确连接。综上所述,NorFlash的版图设计特点包括:独立的单元连接导致密集的布线、高压器件的特殊处理、外围电路(尤其是灵敏放大器和译码器)的布局优化、以及电源网络的强化。根据上述内容,我们可以组织回答如下:---###**NorFlash存储器的特点**1.**字节寻址能力**NorFlash支持随机访问,允许直接读取任意字节,因此常用于存储引导代码(引用[1])。2.**读写性能差异**-读取速度较快(约几十到两百纳秒),但写入速度较慢(约十到五十微秒)(引用[2])。-由于写入速度慢,通常作为只读存储器使用。3.**存储单元结构**每个存储单元独立连接到字线和位线,形成并行结构,因此读取速度优于NANDFlash(引用[3])。---###**NorFlash版图设计特点**1.**单元阵列结构**-采用**并行连接**的网格状阵列,每个单元位于字线(WL)和位线(BL)交叉点。-单元独立连接导致金属布线密集,需使用**高层金属**(如Metal3+)进行全局布线以降低$RC$延迟。2.**高压器件隔离**-编程/擦除操作需高压($V_{pp}\approx12V$),高压晶体管需添加**隔离环**(ISORing)并连接专用接地(PGND)(引用[2])。-隔离环宽度需满足设计规则,防止闩锁效应(Latch-up)。3.**外围电路布局**|模块|布局要求|优化目标||----------------|----------------------------|-----------------||**行译码器**|紧贴阵列左右边缘|缩短字线长度||**灵敏放大器**|对称布局+AGND隔离|降低读出噪声||**列选择器**|阵列顶部/底部|减少位线电容|4.**电源网络设计**-高压区($V_{pp}$)与低压区($V_{cc}$)物理分离,避免电压干扰。-采用**分级接地策略**:-灵敏放大器:AGND(模拟地)-高压电路:PGND(功率地)-数字电路:DGND(数字地)5.**特殊工艺层**-浮栅结构需两层多晶硅:-第一层多晶硅(Poly1)作为浮栅-第二层多晶硅(Poly2)作为控制栅-浮栅与衬底间氧化层厚度需严格控制(影响数据保持特性)。6.**验证重点**-**DRC**:检查浮栅间距、高压器件最小宽度规则。-**LVS**:验证浮栅与控制栅的连接关系。-**ERC**:检测高压路径是否与低压电路意外短路。---###**相关问题**1.NorFlash的浮栅氧化层厚度对数据保持时间有何影响?2.如何优化NorFlash版图中的字线RC延迟?3.在灵敏放大器布局中,AGND隔离的具体实现方法是什么?4.高压隔离环(ISORing)的设计规则有哪些关键参数?>**总结**:NorFlash版图以**并行阵列、高压隔离和多级接地**为核心,需协同处理高速读取与高压操作的矛盾[^1][^2][^3]。</think>### **Nor Flash存储器特点与版图设计核心特性** #### **一、Nor Flash存储器的核心特点** 1. **并行访问架构** - 每个存储单元**独立连接**到位线和字线(引用[3]),形成类似"网格"的并行结构,支持**字节级随机访问**(引用[1])。 - 读取速度优势:直接访问单元无需串联导通,读取周期约 **$50-200\ \text{ns}$**(引用[2]),比NAND Flash更快(引用[3])。 2. **读写性能差异** - **快速读取**:适用于代码执行(XIP,eXecute In Place),嵌入式系统常用作启动存储器(引用[1])。 - **慢速写入**:编程周期约 **$10-50\ \mu\text{s}$**(引用[2]),需高压操作,无法替代RAM。 3. **单元结构特性** - 浮栅晶体管构成存储单元,控制栅与浮栅间通过薄氧化层隔离。 - 擦除机制:通过 **$F-N$隧穿效应**(Fowler-Nordheim Tunneling)实现。 --- #### **二、Nor Flash版图设计特点** 1. **阵列拓扑结构** ```plaintext ┌───┬───┬───┐ │ C │ C │ C │ → 单元独立连接(字线/位线直连) ├───┼───┼───┤ │ C │ C │ C │ → 无串联晶体管(对比NAND串联结构[^4]) └───┴───┴───┘ ``` - **单元均一性**:所有单元尺寸严格一致,确保寻址精度。 - **金属布线密集**:独立连接导致位线/字线数量多,需**多层金属布线**(Metal1-Metal3用于局部互连)。 2. **高压器件隔离设计** - **编程/擦除高压电路**($V_{pp} \approx 12V$)需特殊处理: - 添加 **$ISO\ Ring$**(隔离环)包围高压器件(引用[2]的PGND隔离原理)。 - 采用 **$DWDM$**(双阱工艺)隔离NMOS/PMOS,防止闩锁效应。 - 高压走线间距扩大 **$2\times$** 以上,满足 **$DRC$** 规则。 3. **外围电路布局优化** | 模块 | 布局要求 | 设计目标 | |---------------|-------------------------|------------------| | **灵敏放大器** | 对称布局+AGND隔离 | 抑制读出噪声 | | **行译码器** | 紧贴阵列边缘 | 缩短字线RC延迟 | | **电荷泵** | 远离敏感模块 | 避免高压干扰 | 4. **电源网络分层策略** - **电压域分离**: - 核心逻辑: **$V_{cc} = 1.8V/3.3V$** - 编程电路: **$V_{pp} = 12V$**(独立电源网格) - **接地策略**: - 灵敏放大器: **$AGND$**(模拟地) - 高压区: **$PGND$**(功率地) - 数字电路: **$DGND$**(数字地) 5. **特殊工艺层要求** - **浮栅结构**:需两层多晶硅(Poly1浮栅 + Poly2控制栅)。 - **隧道氧化层**:厚度 **$<10\ \text{nm}$**,光刻对齐精度要求 **$\pm 3\ \text{nm}$**。 - **接触孔密度**:单元区接触孔密度是逻辑电路的 **$2-3\times$**。 --- #### **三、可靠性设计要点** 1. **耐久性提升** - 单元周围添加 **$Guard\ Ring$**(保护环),减少擦写次数导致的电荷泄漏。 - 浮栅边缘采用 **$Round\ Shape$**(圆角设计),避免电场集中(降低氧化层击穿风险)。 2. **信号完整性措施** - 位线两侧布 **$Shielding\ Line$**(接地屏蔽线),抑制串扰(引用[2]的SGND策略)。 - 字线分段驱动:每 **$256\ \text{单元}$** 插入驱动器,降低 **$RC$** 延迟(延迟模型: **$\tau \propto R \cdot C$**)。 --- ### **总结** Nor Flash版图设计核心在于: 1. **并行阵列结构** → 独立单元连接导致密集布线 2. **高压隔离** → ISO Ring/DWDM隔离 **$12V$** 电路 3. **信号分层** → AGND/PGND分离 + 屏蔽线抑噪 4. **工艺特殊性** → 浮栅双多晶硅 + 超薄氧化层控制 > 设计需协同考虑 **字节寻址优势** 与 **高压操作约束**[^1][^2][^3]。 --- ### **相关问题** 1. Nor Flash的浮栅氧化层厚度如何影响数据保持时间? 2. 在版图设计中如何优化字线RC延迟?给出定量计算公式。 3. Nor Flash的ISO Ring隔离设计有哪些关键参数? 4. 字节寻址功能对Nor Flash的译码器布局有何特殊要求?
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