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大多数情况下，合金、金属，以及sp2石墨碳、金属碳化物等材料呈现不对称峰型，采用"Asymmetric"拟合，而半导体、多数氧化物以及高分子聚合物材料的图谱呈现对称峰型，采用"Gaussian-Lorentzian"函数模式拟合；通常背底扣除方式选择Shirley或者Smart，同一组元素分析，所有元素尽可能选择同一背底扣除方式；谱峰常用面积比，p1/2:p3/2=1:2，d3/2:d5/2=2:3，f5/2:f7/2=3:4。对称的谱峰进行单峰拟合时，谱峰的高斯比应大于70%；

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