干涉装置与光场时空相干性、激光
分波前干涉装置
分波前干涉装置可统归于 “双象系统”。
相干光源的实现----------一分为二,再合二更迭--------目的:消除场点相位差的不稳定性--------------通常可分为两大类:分波前,分振幅。
分波前干涉装置可概括为
分别到达P点的相位差是稳定的,仅取决于几何上的光程差。
交迭区中,场点P的光强取决于相位差δ(p)
光程差 △L(p)=L1(p) - L2(p)
相位差 δ(p)= 2π/λ0 △L(p),稳定,与t无关。
但是,“成像” 不是必要条件,只要实现了分波前再交迭,则有干涉条纹出现在交迭区。不过,一旦归纳为 双象系统,其条纹具体性质便直接作用“杨氏干涉”的结论。
条纹间距
Δ
x
=
D
λ
d
\Delta x= \frac{D \lambda}{d}
Δx=dDλ
针对具体装置,去确定 等效D,等效d。
在边缘处,直射光程等于反射光程,即表现光程差为零。于是,此处是亮纹或是暗纹,就成为反射时是否发生半波损的实验判据,结果是边缘处出现了暗纹。这就表明在 掠入射时介质界面反射产生相位突变π,这与菲涅尔公式导出的结果一致。但是,这不能证明 光与屏幕无职的相互作用(散射)过程中,光场中的电矢量扮演着主要角色。
对切玻璃、牛顿环示例
条纹的变动
条纹的静态分布;条纹的动态变化-----尝尝联系着 干涉的应用
概述:
光程差 发生变动,条纹发生变动。
三种因素:介质变化、结构发生变化、光源移动
定量关系:若 δ(△L)=N λ0,则此处光强I(p)变化N次。或移动N根条纹(视场印象中)
判断条纹变化的一般方法(或一般原则):
或固定空间点。看光程差 △L(p)的变化;
或固定光程差值,看空间点的变化------------通常跟踪零级条纹(如果允许的话)----------当情况变动后,零级出现在何处?
扩展光源对干涉条纹反衬度的影响
概述:
非相干光源,多套条纹非相干叠加,结束;
一般情况,条纹彼此错开,故反衬度下降;
特殊情况下,条纹分布完全一致,维持反衬度不变,且增加条纹亮度。
两个分离点源照射下的部分相干场
反衬度Υ 随着 δx 或 x0的递增而有周期性变化
非相干线光源照明空间中的部分相干场
条纹间距
Δ
x
=
D
λ
d
\Delta x = \frac{D \lambda}{d}
Δx=dDλ
0极位移
δ
x
=
D
x
0
R
\delta x = \frac{D x_0}{R}
δx=RDx0
在线光源坐标轴上,取线元 x0 → x0+ △x0,产生干涉强度分布
d
I
(
x
)
∞
(
1
+
c
o
s
(
2
π
f
x
+
2
π
f
0
x
0
)
)
d
x
d I(x) ∞ (1+cos(2\pi f x + 2\pi f_0 x_0)) dx
dI(x)∞(1+cos(2πfx+2πf0x0))dx
其中,空间频率
f
=
1
Δ
x
=
d
D
λ
,
f
0
=
d
R
λ
f =\frac{1}{\Delta x}= \frac{d}{D \lambda}, f_0 = \frac{d}{R \lambda}
f=Δx1=Dλd,f0=Rλd
改写相移
ϕ
(
x
0
)
=
2
π
Δ
x
⋅
δ
x
=
2
π
d
R
λ
x
0
=
2
π
f
0
x
0
\phi(x_0) = \frac{2 \pi}{\Delta x} · \delta x = 2\pi \frac{d}{R \lambda} x_0 = 2\pi f_0 x_0
ϕ(x0)=Δx2π⋅δx=2πRλdx0=2πf0x0
于是,引入比例常数B,设光源为均匀发光体,则有
I
(
x
)
=
∫
−
b
2
b
2
d
I
(
x
)
=
∫
−
b
2
b
2
B
(
1
+
c
o
s
(
2
π
f
x
+
2
π
f
0
x
0
)
)
d
x
0
I(x) = \int_{\frac{-b}{2}}^{\frac{b}{2}} \,d I(x) = \int_{\frac{-b}{2}}^{\frac{b}{2}} B(1+cos(2\pi f x + 2\pi f_0 x_0))\,dx_0
I(x)=∫2−b2bdI(x)=∫2−b2bB(1+cos(2πfx+2πf0x0))dx0
积分结束,第一项 Bb = I0 (直流部分)
第二项 B (sinxf0b/πf0) cos2πfx (交变成分)
即
I
(
x
)
=
I
0
(
1
+
s
i
n
π
f
0
b
π
f
0
b
c
o
s
2
π
f
x
)
I(x) = I_0(1+\frac{sin\pi f_0b}{\pi f_0 b} cos2\pi fx)
I(x)=I0(1+πf0bsinπf0bcos2πfx)
可见,反衬度
γ
=
∣
s
i
n
π
f
0
b
π
f
0
b
∣
\gamma = |\frac{sin\pi f_0 b}{\pi f_0 b}|
γ=∣πf0bsinπf0b∣
即可知
光源受限宽度 b0 = Rλ/d,当d已知时;
双孔受限间隔 d0 = Rλ/b , 当b给定时。
值得注意的是:
(1) 当b0 成立时,此时线光源的两端点A与B,有两套条纹,彼此错开 N = d/Rλ b0 = 1条,而整体反衬度 γ = 0;
(2) 当b0/2 成立时,此时两套条纹彼此错开,N=0.5条,整体 γ = 0.64.
这些结论可有一个直观图像予以说明。由此引出一个判据(估算): 用非相干扩展光源,当其边缘点源的光程差之差为 一个波长 λ0时,则考察区域中的γ = 0---------------以此估算极限值。
光场的空间相干性
两个点---------两个次波源(S1、S2) 相干性
S1 点的总扰动
U
1
(
t
)
=
(
U
A
+
.
.
.
+
U
O
+
.
.
.
.
+
U
B
)
=
Σ
U
i
(
t
)
\textbf U_1(t) = (U_A+ ... + U_O + .... +U_B) = \Sigma U_i(t)
U1(t)=(UA+...+UO+....+UB)=ΣUi(t)
S2点的总扰动
U
1
(
t
)
=
(
U
A
′
+
.
.
.
+
U
O
′
+
.
.
.
.
+
U
B
′
)
=
Σ
U
i
′
(
t
)
\textbf U_1(t) = (U_A'+ ... + U_O' + .... +U_B') = \Sigma U_i'(t)
U1(t)=(UA′+...+UO′+....+UB′)=ΣUi′(t)
可见,其中含 完全相干成分 与完全非相干成分,总效果,既非完全相干,又非完全不相干,而是 部分相干,虽然光源是完全非相干的。
相干程度可由双孔干涉实验中的观察屏上 光强分布的反衬度γ值,作为 S1、S2相干度的一种量度。
反映光场空间相干性的反比律公式
引用前面公式,当光源线度b给定,则双孔的极限宽度 d0 = Rλ/b 。
引入角量 △θ0 = d0/R 极限角范围,相干孔径角,
于是
b
Δ
θ
0
≈
λ
b \Delta \theta_0 ≈ \lambda
bΔθ0≈λ
其意义是
(1) 实际双孔的张角 △θ = △θ0,则γ ≈0;△θ < △θ0,则γ >0,部分相干。
(2) 光源线度 b越小,则 △θ0越大;
(3) 由反比律面规划了一个角范围,(S1、S2)处于 △θ0之外,则γ≈0,它俩几乎不相干;(S1、S2)处于 △θ0之内,则γ>0,它俩部分相干;(S1、S2)处于 △θ0 内部越深,则γ越高,相干性越好。
相干面积
由 b· △θ0 ≈ λ ,得 △θ0 ≈ λ/b
距离R 远处的面积(相干面积)
Δ
S
0
=
π
4
(
R
⋅
Δ
θ
0
)
2
=
(
R
λ
b
)
2
\Delta S_0 = \frac{\pi}{4}(R· \Delta \theta_0)^2 = (\frac{R\lambda}{b})^2
ΔS0=4π(R⋅Δθ0)2=(bRλ)2
空间相干性反比律公式中的系数
b
Δ
θ
0
=
N
λ
b \Delta \theta_0 = N \lambda
bΔθ0=Nλ
针对不同光源 N不一致,线光源 N=1;环形光源 N=0.78;圆盘光源 N=1.22(1节贝塞尔函数确认)
有意思的是 系数的平均值 1/2(0.78+1.22) = 1
利用γ值的变化(下降),可以精测遥远星体的角径-------化"消极"为"积极"
当d接近d0,γ由1下降至0(干涉条纹消失),于是 △θ’= λ/d0 d0取1m时,△θ’=5.5*10-7 rad
这只是一个设想,技术上的实现有问题
(1)可调范围在m量级的双孔,在实验上有诸多分辨(眼睛无法分辨条纹间距)
迈克尔孙星体干涉仪解决了这个矛盾。
评论
(1) 它巧妙地解决了测角高精度与条纹宽间隔之间的矛盾。 短 d → △x = fλ/d, d mm; 长基线 h → △θ’ =λ/h0 , h0 103mm;
(2) 在光源与双孔位置不变的条件下,它通过镜面的移动面改变场点(S1、S2)的相关程度,并予以探测。史无前例,这使它成为现代光学相关实验的先导。 虽然这里设计的是 相位型干涉仪中的空间相干性的概念,那里设计的是强度干涉仪。
薄膜干涉
薄膜干涉定域问题
(1) 点光源照明时干涉区---------广延性
(2) 扩展光源照明时干涉区------局限性
通常关注两处干涉场
(1) 表面的----------------------------------------------等厚干涉条纹
(2) 膜厚均匀时远处的干涉场----------------------等倾干涉条纹
因为理论分析简单,实际应用广泛。
等厚条纹
1、理论说明-------------表面条纹的等厚性
2、表面条纹偏离等厚线情形
大倾角时
厚膜层时
薄膜的第一种意义
3、扩展光源将降低表面条纹的反衬度 ------------薄膜的第二种意义
光程差近似公式
Δ
L
0
(
P
)
=
2
n
h
p
c
o
s
i
p
\Delta L_0(P) = 2 n h_p cosi_p
ΔL0(P)=2nhpcosip
i p内折射角,n hp 该处播磨光学原膜越薄,则 △θ越小,从而 △L0§ 上述表达式近似程度。
可见 影响光程差的 ,既有厚度h因素,又有倾角 i 因素。
获得等厚条纹的实验条件
(1) 平行光近乎垂直照明
(2) 球面波傍轴销倾角照明(窄光束)
总之,设法实现 ip≈0 << 1, 有 cos ip =1。
于是
Δ
L
0
(
p
)
=
2
n
h
p
\Delta L_0(p) = 2n h_p
ΔL0(p)=2nhp
等厚条纹的性质
(1) 表面条纹形貌与 播磨几何等厚络一致
(2) 当 2nh = k λ0,有亮纹(或暗纹)
当 2nh = (k+1/2) λ0,有暗纹(或亮纹)
(3) 相邻条纹对应的厚度差 λ/2,或条纹变动1次,对应厚度变化 λ/2
楔形薄膜的等厚条纹
可利用该点进行精密测量(劈尖干涉),测定平面的平直度,若标准件板某处凹起,则出现乙图;若某处凸起,则出现丙图;
牛顿环及其变动
中心点膜厚h0,出现一连串同心干涉环。
(1) 紧密接触,h0= 0。中心–零级暗斑,则 K级暗环半径
r
K
=
K
R
λ
∝
K
,
r_K = \sqrt{KR\lambda} ∝ \sqrt{K},
rK=KRλ∝K,
即,
KaTeX parse error: Expected 'EOF', got '}' at position 27: …r_K^2}[K\lambda}̲
该公式意义在于 通过干涉的办法求出平凸透镜的曲率半径
(2) 常见 h0 ≠ 0 ,中心可亮可暗。有
R
=
r
K
+
m
2
−
r
K
2
m
λ
=
d
K
+
m
2
−
d
K
2
4
m
λ
R = \frac{r_{K+m}^2 - r_K^2}{m\lambda} = \frac{d_{K+m}^2-d_K^2}{4m\lambda}
R=mλrK+m2−rK2=4mλdK+m2−dK2
利用牛顿环在光学冷加工车间判断光学透镜是否合乎要求,当对上方G验规施加压力,若牛顿环扩大如a所示,则待测光学透镜L为中心曲率半径待研磨;若牛顿环收缩如b,则待测光学透镜为边缘待研磨
等厚条纹用于精密测量,可用于测量角度、微厚度、相关物理量,精度可达到100nm。
表面条纹偏离等厚线的情况
傍轴小倾角光束 ,则出现的是平直干涉条纹,如左侧图。如光阑打开,照明光束变为大倾角,则干涉条纹变弯,且弯曲方向朝向0点(棱边夹角交点) 如中侧 图。若膜层厚度增加,则弯曲更明显,如图右。
定性说明:
考察条纹上,两点 p p’,要满足等光程差。
2
n
h
p
c
o
s
i
p
=
2
n
h
p
′
c
o
s
i
p
′
2nh_p cos i_p = 2n h_p' cosi_p'
2nhpcosip=2nhp′cosip′
因为 ip’ >ip,cos ip’ < cos ip,因此 hp’ >hp,弯曲凸向棱边。
粗略数学描写
h变化-i变化 有确定关系,以维持
2
n
h
c
o
s
i
=
c
o
n
△
t
2nh cosi = con △t
2nhcosi=con△t
全微分 d(2nhcosi) = 0
考虑到
d
h
d
i
=
h
t
a
n
i
。
∝
t
a
n
i
倾角因素;
∝
h
膜厚因素
\frac{dh}{di} = h tani。∝ tani 倾角因素; ∝h 膜厚因素
didh=htani。∝tani倾角因素;∝h膜厚因素
说明
大倾角或厚膜层 → dh/di越大,条纹弯曲(偏离等厚线)越明显。
薄膜的意义:
(1)薄膜越薄,条纹形貌等厚线的一致性越好,因而精测的准确性越高。
扩展光源照明,表面条纹的反衬度下降,因为 各点源生成的各套条纹,彼此错位;或者说不同电源有着不同的光程差(相对于同一场点P)
数学粗略描述
与接收光瞳对应的光源边缘两点 AB产生的光程差之差
δ
(
Δ
L
)
=
−
2
n
h
s
i
n
i
δ
i
\delta(\Delta L) = -2nh sin i \delta i
δ(ΔL)=−2nhsiniδi
令 δ(△L) < λ0,取 δ(△L) = λ0/2,方有 γ>=0.6的干涉场,可供观测。
为此,确定光源的极限角宽 △iM
有
−
2
n
h
s
i
n
i
Δ
i
M
=
λ
0
,
Δ
i
M
=
λ
2
h
s
i
n
i
∝
1
h
-2nh sini \Delta i_M = \lambda_0, \Delta i_M= \frac{\lambda}{2h sini} ∝ \frac{1}{h}
−2nhsiniΔiM=λ0,ΔiM=2hsiniλ∝h1
可见,膜层越薄,所允许的光源线度越大,这是薄膜干涉的又一种意义。
如上图所示,虽然线光场 A‘B’,眼睛接收光瞳仅仅只接收了AB两点的光场。
薄膜光学,增透膜,增反膜。
低膜-----消反射膜,即增透膜,光程差 △L = △L0 = λ0/2,相干相消
高膜-----消透射膜,即 增反膜,光程差△L = △L0 + λ0/2 = λ0,相干相长
重要意义:
(1) 为了完全消反射,还需满足振幅相等,由
n
2
=
n
1
n
g
n_2 = \sqrt{n_1 n_g}
n2=n1ng
予以保证。
(2) 镀膜是针对某一波长 λ0,不能对所有波长成分进行增透增反;
干涉滤光片-------其透射光有了谱线宽度 λ
激光器内谐振器就镀了多层介质膜高反膜,反射率高达99.99%。
参考内容
1、http://www.icourses.cn/sCourse/course_3571.html
2、https://wenku.baidu.com/view/280ca23943323968001c9207.html?fr=aladdin664466&ind=1&aigcsid=39662&qtype=0&lcid=1&queryKey=%E7%8E%B0%E4%BB%A3%E5%85%89%E5%AD%A6%E5%9F%BA%E7%A1%80&wkts=1708349418827&bdQuery=%E7%8E%B0%E4%BB%A3%E5%85%89%E5%AD%A6%E5%9F%BA%E7%A1%80
3、https://baike.baidu.com/item/%E5%8A%88%E5%B0%96%E5%B9%B2%E6%B6%89/4736392?fr=ge_ala
4、https://baike.baidu.com/item/%E7%89%9B%E9%A1%BF%E7%8E%AF/906788?fr=ge_ala