CNTFET建模与低功耗SRAM设计

CNTFET建模与低功耗SRAM设计

CNTFET建模与低功耗SRAM单元设计

摘要

本文提出了一种基于碳纳米管(CNT)电子结构的碳 纳米管场效应晶体管(CNTFET)紧凑模型。该模型从不同手 性的碳纳米管中的载流子浓度出发,建立了完整的电流输运模 型。该模型描述了碳纳米管上电荷随栅极电压的变化情况。I-V特性被高效建模,并开发了适用于HSPICE电路仿真的紧 凑模型。最后,利用所开发的模型设计了6T静态随机存取存 储器(SRAM)单元,并对各项性能指标进行了分析。结果 表明,基于CNTFET的6T-SRAM具有极低的待机功耗和较高 的静态噪声容限。

关键词 -碳纳米管场效应晶体管,建模,静态随机存取存储器, HSPICE,静态噪声容限

I. INTRODUCTION

近年来,碳纳米管(CNTs)被广泛探索作为未来 半导体器件的新型结构材料。由于最近的实验数据[1‐ 2]显示其性能明显优于硅金属氧化物半导体场效应晶体 管(MOSFET),碳纳米管有望成为硅工业的替代方 案。最近的研究表明,碳纳米管场效应晶体管( CNTFET)是低功耗电路设计的可行选择[3]。由于碳 纳米管的电学特性广泛依赖于其手性[4], ,它既可以表 现为导体,也可以表现为半导体。正因如此,设计人员 正在考虑完全基于碳纳米管的电路[5]。

关于碳纳米管场效应晶体管(CNTFET)的建模已 有大量工作在进行,并在文献中有所报道[6‐10]。对于 CNTFET等新型分子电子器件,有必要建立精确的模型, 因为用于MOS电子器件的标准近似和模型可能超出其 适用范围。由于碳纳米管(CNT)具有不同的电学特性, 包括本征载流子浓度和带隙对纳米管直径的依赖性 [11], ,因此必须在分子尺度上精确理解CNTFET中的 输运现象。电子‐声子散射效应在非弹道输运机制中起 着重要作用[12]。然而,当沟道长度较短(~200nm), 且与本征碳纳米管的平均自由程相当时[13], ,建模时可 假设为弹道输运。

本文提出了一种基于碳纳米管电子结构的碳纳米管 场效应晶体管紧凑模型。碳纳米管的基本特性,如带隙 和本征载流子浓度,由电子结构[14]决定。建模方法的 漏极电流的解析关系是通过建立碳纳米管沟道上的电荷 与栅极偏压之间的关系来实现的。该关系避免了导致复 杂性的自洽方程[15] 。利用MATLAB对I‐V特性进行了 高效建模与仿真。为了进行电路仿真,开发了适用于 HSPICE仿真器的模型文件。最后,在HSPICE中设计 并仿真了6T静态随机存取存储器(SRAM)。对 SRAM的各项性能参数进行了评估,主要包括静态噪声 容限(SNM)、读取静态噪声容限、写入静态噪声容 限和静态功耗。本文结构如下:第2节描述了解析建模 的理论基础;第3节描述了SRAM设计与仿真;最后在 第4节得出结论。

II. 碳纳米管场效应晶体管的MODELING THEORY模型

建模理论源于对电子结构的研究。碳纳米管是由石 墨烯片沿T轴卷曲形成的直径在nm范围内的纳米管。卷 曲方式决定了其电学特性,该特性由手性矢量(n,m)定 义。基于这些手性矢量可推导出解析表达式。直径可直 接由(n,m)计算得出,并用于计算带隙以及导带最小值 (Δ1)[16]。利用这些数值,可计算出碳纳米管沟道内的 本征载流子浓度,该浓度决定了导电性能。

示意图0

示意图1

该模型可以从图1中进行解释,其中沟道的能带在栅 极偏压的作用下向下移动。栅极偏压在碳纳米管沟道上 感应出电荷,从而在其上产生电势。源极和漏极侧的费 米能级将随着漏极偏压的作用而发生移动。漏极电流 (IDS)可按[17]计算:

$$
ܫ஽ௌ=൬ݍߨKℎܶ ൰[ln(1+exp(ߦௌ)) −ln(1+exp(ߦ஽))] \quad (1)
$$

其中q为电子电荷,h为普朗克常数,K为玻尔兹曼常数, T为工作温度。ξS和ξD的值如下所示:

$$
ߦௌ=Δܧܨ+ݍ൫ܸ஼ே்(0)−ܸܵܤ −߮0൯−߂1 ܭܶ \quad (2)
$$

$$
ߦ஽=Δܧܨ+ݍ൫ܸ஼ே்(ܮ)−ܸܦܵ −߮0൯−߂1 ܭܶ \quad (3)
$$

ΔEF是由于掺杂引起的费米能级移动,VSB和VDS分 别为源极到体极和漏极到源极偏压。VCNT和Ф0分别为 前栅极和背栅极(体极)引起的碳纳米管表面电势。对 于顶栅器件结构(图2),Ф0设为零。在源极和漏极处 VCNT的值不同,可按[18]计算:

$$
ܸ஼ே்(0)=ܸܩܵ −ܸܨܤ \quad (4)
$$

$$
ܸ஼ே்(ܮ)=
ܸீௌ −ߜܫ݁ିଵ −ܸி஻+ߜ݉ቀܸ஼஻+߮଴+ ௱భି୼ாಷି௄் ௤ ቁ 1+ߜ݉ \quad (5)
$$

其中,VGS为栅极到源极偏压,VCB为由于漏极和源极 端电压在碳纳米管与衬底之间产生的感应电势,VFB为 平带电压。m, I和 δ的值可通过[18]解析计算得到。

示意图2

根据上述方程,已在MATLAB中对(19,0)碳纳米管的特性 进行了绘图。仿真针对氧化层厚度为1nm的顶栅结构进行。 V CNT 相对于不同V GS 在不同V CB 和V FB 下的变化情况已绘制 (图3和图4)。结果明确表明,当V CNT 小于第一导带最小 值时,其遵循V GS 对于 V GS 小于第一导带最小值的情况 (Δ1)。 Δ1的值为0.45/d。因此对于(19,0)碳纳米管,d =1.5nm且Δ1=0.3V。由结果可推断,VCB和VFB会使特 性偏离其理想行为。因此在仿真中更倾向于将其值设为 零。

示意图3

图5和图6显示了碳纳米管场效应晶体管的IDS – VDS和IDS – VGS特性。仿真实验中采用的各种参数为:碳纳米管直径 =1.5nm,氧化层厚度=1nm,介电材料的k=16 。I-V特性通 过将VCB和VFB设为零来绘制,以实现更好的栅极控制。 图5显示了IDS – VDS特性具有更优的指数特性和饱和值。 图6显示了IDS – VGS特性具有良好的开关比,证明其适用 于数字电路应用。

示意图4

示意图5

III. 6T 静态随机存取存储器 CELL DESIGN

所描述的模型通常是基于表面电荷的模型,用于电路仿真。为了获得电路兼容模型,以I-V特性表示VGS、VDS和VSB是重要的。计算碳纳米管上的表面电势需要自洽解,这使得电路仿真无法进行。从(4)和(5)可以明显推断出,所提出的模型避免了自洽方程,因此可用于SPICE仿真。该模型已针对N型碳纳米管场效应晶体管和P型碳纳米管场效应晶体管开发,并应用于静态随机存取存储器设计。

示意图6

6T 碳纳米管场效应晶体管SRAM单元结构如图7所示。它由两个交叉耦合反相器和两个N型碳纳米管传输晶体管组成。该结构与传统MOSFET结构相同,只是将MOSFET替换为碳纳米管场效应晶体管。最近的研究表明,基于碳纳米管场效应晶体管的SRAM在所有性能参数上均优于传统的互补金属氧化物半导体设计[19]。原因是静态噪声容限取决于PFET和NFET的阈值电压。在碳纳米管场效应晶体管中,阈值电压依赖于手性,这可用于设计新型SRAM单元[20]。

示意图7

通过测量称为静态噪声容限(SNM)的重要性能指标来分析静态随机存取存储器(SRAM)单元的性能。SNM定义为:在不导致输出电压偏离允许的逻辑电压电平[21]的情况下,可代数叠加到无噪声最坏情况输入电平上的外部信号的最大电压幅度。测量SNM的最简单方法是绘制由两个反相器的电压传输特性(VTC)得到的蝴蝶曲线。将一个反相器的VTC与第二个反相器的反向VTC进行绘制,从而获得如图8所示的蝴蝶曲线。通过测量可嵌入镜像蝴蝶曲线之间的最大正方形的边长,即可计算出SNM。

静态噪声容限取决于交叉耦合反相器的电压传输特性。当存储单元在由VDD供电时倾向于保持数据值时,定义为待机操作。

示意图8

其他关键指标是读取静态噪声容限和写入静态噪声容限,分别如图8和图9所示。读取静态噪声容限定义了SRAM单元的读取能力,即存储的数据能够被有效读取的程度。类似地,写入静态噪声容限定义了写入能力,即位线翻转SRAM单元中存储数据的难易程度。读取静态噪声容限和写入静态噪声容限可以采用蝴蝶曲线以类似于静态噪声容限的方式进行测量。唯一的区别在于操作模式,即通过激活字线进入读取模式或写入模式。

示意图9

为了在节点q和qb处保持电压,需要对PCNTFET和NCNTFET进行适当的尺寸调整。在CNTFET中,可通过改变管数来进行尺寸调整。为了获得公平的结果,尺寸比例取自[20]中的P5/N1=P6/N2=0.5和N4/N2=N3/N1=1.5。表I显示了从6T碳纳米管场效应晶体管SRAM的仿真中计算出的不同性能参数。噪声容限值为240毫伏,与[20]中计算的值非常接近,从而证明了其稳定性。读取静态噪声容限值为200毫伏,证明了读取数据时的稳定性;写入静态噪声容限最高达到380毫伏,表明具有较高的写入稳定性。通过调整P5/N1=P6/N2的缩放比例,可进一步提高写入静态噪声容限,但这会影响读取静态噪声容限。因此,需要权衡以实现更优的性能。从基于CNTFET的SRAM单元的静态功耗值为20皮瓦可以推断,CNTFET的待机功耗极低,这是由于流经SRAM单元的泄漏电流非常小(处于皮安量级)。这证明了在低VDD条件下实现超低功耗SRAM设计是可行的。

表I 6T‐CNTFET SRAM单元的性能参数

参数
SNM 240毫伏
读取静态噪声容限 200毫伏
写入静态噪声容限 380毫伏
静态功耗 20pW
(19,0) CNTFET SRAM

IV. CONCLUSION

本文提出了一种基于碳纳米管(CNT)电子结构的碳纳米管场效应晶体管紧凑模型。该漏极电流建模方法基于碳纳米管沟道电荷与栅极偏压之间的解析关系。首先建立了沟道电势模型,并考虑了平带电压以及碳纳米管与衬底之间感应电势的影响。通过所建立的模型,在MATLAB中绘制了顶栅结构的I-V特性曲线。最后,在HSPICE中对模型进行仿真,用于设计6T SRAM单元,并对各项性能参数进行了分析,包括静态噪声容限(SNM)、读取静态噪声容限、写入静态噪声容限和静态功耗。研究发现,基于CNTFET的SRAM在功耗和稳定性方面表现出优越性。

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