Depth Peeling浅析

最新推荐文章于 2024-11-30 21:04:18 发布
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分类专栏： 图形图像 文章标签： layer
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本文链接：https://blog.youkuaiyun.com/aidlife/article/details/7343185
本文介绍了一种利用shadowmap技术实现的不计算折射透明度渲染方法。该方法通过将场景分为多个层，并分别对各层进行渲染及alpha混合，最终达到较好的视觉效果。实验表明，增加层数可以提升渲染的真实性。

详情见：Interactive Order-Independent Transparency

 概述：利用shadowmap技术实现不计算折射的透明度渲染。

1.对不同的层利用shadowmap渲染

Layer 0        

                                          

Layer 1


Layer 2


Layer 3


2.对不同的层进行alpha混合

1 layer


2 layers


3 layers


4 layers


3.结论：

采用的层数越多，结果越逼真

VTK使用深度剥离depth peeling保证透明视图渲染正常
sinat_41788674的博客
01-18 2731
VTK使用深度剥离depth peeling保证透明视图渲染正常深度剥离depth peeling（GPU）使用深度剥离Tips深度剥离异常情况vtkDepthSortPolyData（CPU）使用 深度剥离depth peeling（GPU）使用 半透明情况下普通render渲染效果异常的原因：为了提高渲染效率，一般情况下默认使用的是alpha blending（alpha混合），即只渲染最近的一面；因而当半透明显示时就会有问题，此时可以使用depth peeling（深度剥离） 深度剥离通常通过深度测试
depth peeling实现半透明
banfan0440的博客
04-29 848
最近忙着找实习做毕设出差，好久没有记东西，现在记录一下带学弟写的一个用depth-peeling实现的半透明。 ----------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------...
SS-refraction-through-depth-peeling-in-threejs:在Threejs中通过深度剥离实现屏幕空间折射
03-20
SS折射通过三层深度剥离 在Threejs中通过深度剥离实现屏幕空间折射
depth peeling
weixin_34107739的博客
02-23 227
depth peeling是一种利用shadow mapping来模拟depth test的技术，利用它，可以实现order-independent transparency和woo shadow mapping等需要逐层剥离深度的特效。 下面是一个depth peeling demo，用4pass剥离了4层，效果不错，效率也很“惊人”。:D 需要硬件支持如下扩展：...
Depth peeling
weixin_34194359的博客
09-08 304
例子见Nvidia DX10 sdk 《Stencil Routed KBuffer》 主要实现：第一遍正常渲染，获得Z最小的一层深度值，第二层将第一层深度值作为ShaderResourceView传入，若场景的Z小于等于第一层深度，则discard，这样获得第二层深度值；后面以此类推。 // tDepthBuffer为上一层深度, IN.HPosition为屏幕坐标 ...
Single Depth peeling 顺序无关渲染(OIT)
weixin_41191739的博客
11-23 811
什么是顺序无关渲染 在3D渲染中，物体的渲染是按一定的顺序渲染的，这也就可能导致半透明的物体先于不透明的物体渲染，结果就是可能出现半透明物体后的物体由于深度遮挡而没有渲染出来。对于这种情况通常会先渲染所有的不透明物体再渲染半透明物体或者按深度进行排序来解决。但这样仍然无法解决半透明物体之间的透明效果渲染错误问题，特别是物体之间存在交叉无法通过简单的排序来解决。于是就有一些用专门来解决半透明物体渲染算法，OIT算法即Order Independent Transparency（顺序无关的半透明渲染）。Dept
【ThreeJs】利用Depth Peel技术，解决模型半透明出现的碎三角面问题
kaimw2007的专栏
03-12 5723
在ThreeJS中，模型半透明设置只需要很简单的两行代码 curMat.opacity = 0.5 // 50%透明度 curMat.transparent = curMat.opacity < 1 // transparent属性必须为True才能半透明 然而..... 我们的模型有时候出现这种情况，正面看半透明效果似乎正常， 正面看半透明效果似乎正常 一旦旋转到侧面，就会...
Depth Peeling
xak的专栏
10-10 1987
http://developer.download.nvidia.com/assets/gamedev/docs/OrderIndependentTransparency.pdf
NV OIT algorithm : Depth peeling is a fragment-level depth sorting technique
weixin_34221036的博客
06-28 346
https://developer.nvidia.com/content/interactive-order-independent-transparency Correctly rendering non-refractive transparent surfaces with core OpenGL functionality [9] has the vexing requirements ...
osgdepthpeeling例子
yungis的专栏
03-04 3321
好久没有写osg的例子了，不知不觉osg已经升级到3.1.4了，本人参考的还是3.0.1。不多说了，继续osg 例子之路。 camera除了继承自Transform之外，还继承CullSettings，相机除了变换位置外还需要一些本身的设置， 这个CullSettings就是剔除的设置，它的子类有Camera、CullStack、SceneView。 首先看setComputeNearFa
三维渲染中顺序无关的半透明混合(OIT）（一Depth Peeling）
htsitr2的专栏
11-30 683
本文收集关于透明对象渲染技术中关于OIT技术的资料，尝试用简单的逻辑对这些内容进行整理。
VTK 深度剥离算法（Depth Peeling）半透明实现
sinat_33514750的博客
03-15 2173
#include "vtkRenderWindowInteractor.h" #include "vtkRenderWindow.h" #include "vtkRenderer.h" #include "vtkActor.h" #include "vtkImageSinusoidSource.h" #include "vtkImageData.h" #include "vtkImageD...
unity 半透明混合问题_unity 半透明渲染技巧(3)：深度剥离法
weixin_34146759的博客
12-15 990
DepthPeeling ！没错 目前实时渲染最先进的OIT 技术之一 其他的我就知道只有Per-PixelLinkedLists 了，前者的优点是1显存可以更小 ，2有限次数时候 丢弃的层对画质影响更小，比如5层半透明后面就当看不见没人察觉 。缺点是需要多次渲染 总的速度不如后者快，但稳定些。效果图对比alpha blend的 常见错乱6层剥离的效果https://www.zhihu.com/v...
three.js中的perspectiveDepthToViewZ
webgpu
10-22 375
这个公式如何来的 Zview= -B/(D+A) A B替换为透视投影矩阵的内容 D这里是[-1,1],但接口读入的可以是最终0-1的depth,D就是depth*2-1;继续带入 threejs交流群511163089
android8.0 中 fragment间的跳转_在UE4中实现Depth Peeling
weixin_39728572的博客
12-27 281
透明渲染乱序问题大部分实时引擎的透明渲染的排序是逐物体的，而非逐像素的，这会导致模型间存在交叉的情况下可能会出现透明渲染乱序问题，再加上模型的顶点顺序是制作时序列化固定的，这会使得凹形的单模型在某些角度下也会出现渲染乱序问题。 渲染乱序的三种情况示意图，参考文献[1]凹形的单模型可看做是多个交叉模型的组合，它们的透明渲染乱序问题本质上是同一个问题。目前的解决方式UE4目前提供的解决透明渲染乱序问...
半透明渲染新技术摘录
Per Pixel Lighting
06-13 4567
 ATI的头发渲染方案：1.      在网格制作阶段对三角形排序，使头发的三角形大致按从下到上排序。2.      渲染时使用需要以下4个pass3.      最终的渲染效果此方案不需要实时的三角形排序，效果也比较理想。但是4个pass开销比较大。
半透明穿插遮挡小结
jiadu的专栏
08-20 508
1、介绍：该方案是nv最早提出的，原理也相对简单，利用网上的说法就说剥洋葱，一层层的拨开，实际上就是计算每一层的深度，把深度图理解成场景的第一层深度图，那第二层深度就是排除掉第一层深度的那些片元所渲染出的深度，同理第三层到第N层。最后根据深度从远到近正常混合。在不透明物件之后渲染原因：假设不控制渲染顺序，两个物件A为不透，B为半透，先A再B，管线可以再A渲染完更新颜色缓冲，从而正常混合，而先B再A由于颜色缓冲并未更新成A的颜色就会出现错误的最终颜色。
(dual depth peeling)双深度剥离分析
qq_21476953的博客
12-21 687
(dual depth peeling)双深度剥离分析
光阻peeling
最新发布
03-27
<think>好的，用户想了解半导体制造中光刻工艺里的光阻peeling的原因和解决方法。首先，我需要回忆一下光阻peeling的定义，它指的是光刻胶在显影或后续工艺步骤中从基材表面剥离的现象，这会导致图形缺陷，影响良率。 接下来，要分析可能的原因。常见的原因可能包括基材表面处理不当，比如清洗不彻底，残留的污染物或水分影响粘附性。还有光刻胶本身的特性，比如过期或配比不当，导致粘附力不足。另外，工艺参数如前烘（软烘）温度和时间不合适，可能导致溶剂残留或过度固化，影响粘附。曝光和显影的条件也可能有问题，比如曝光剂量不足或显影时间过长，使得光阻结构弱化。还有环境因素，比如湿度过高或温度波动，可能引起应力导致剥离。 然后是解决方案。需要从基材预处理开始，确保彻底清洗，可能使用增强粘附性的处理剂，如HMDS（六甲基二硅氮烷）。检查光刻胶的质量和有效期，确保储存条件正确。优化前烘步骤，调整温度和时间，确保适当去除溶剂而不使胶膜过脆。调整曝光参数，确保足够剂量，避免显影液浓度过高或时间过长。控制工艺环境，保持恒温恒湿。此外，可能需要在工艺后进行后烘（硬烘）以增强粘附。 还要考虑用户可能的深层需求，比如是否涉及特定工艺节点或材料，是否需要具体的参数范围，或者是否有其他相关工艺步骤的影响。例如，在先进制程中，基材的表面粗糙度或薄膜应力可能更为关键，可能需要更精细的表面处理或使用特殊助粘剂。同时，引用相关文献或行业标准来支持建议，增加可信度。 最后，生成相关问题，帮助用户进一步深入理解，比如如何检测光阻粘附性、HMDS的具体应用方法、不同光刻胶的优化策略等。</think>### 光阻Peeling的原因及解决方案（半导体光刻工艺） #### 一、光阻Peeling的主要原因 1. **基材表面处理不当** - 表面残留污染物（如有机物、金属离子）或水分会降低光阻附着力[^1] - 未使用粘附促进剂（如HMDS）或涂覆不均匀 $$ \text{表面接触角} > 80^\circ \Rightarrow \text{附着力显著下降} $$ 2. **光阻材料问题** - 光阻过期或储存条件不当（温度>25℃/湿度>60%） - 光阻配方与基材不匹配（如金属与聚合物基材差异） 3. **工艺参数异常** | 工艺步骤 | 典型问题参数 | |---|---| | 前烘(Soft Bake) | 温度不足（<90℃）或时间过短（<60s）| | 曝光 | 剂量偏差超过±5%额定值 | | 显影 | 液温波动>±1℃/浓度超标 | 4. **环境控制失效** - 洁净室颗粒物超标（>Class 100） - 温湿度波动（ΔRH>10%/小时） #### 二、系统性解决方案 **1. 基材预处理强化** - 使用$HF/H_2O$溶液清洗硅片（配比1:50） - HMDS气相沉积参数优化： $$ \text{真空度} \leq 1 \text{Torr}, 150^\circ \text{C} \times 3 \text{min} $$ **2. 光阻工艺优化** ```python # 烘烤温度时间优化模型示例 def optimize_bake(temp, time): if temp < 90 or time < 60: return "风险等级A：需增加10-15%参数" elif 90≤temp≤110 and 60≤time≤90: return "优化区间" else: return "过烘警告" ``` **3. 设备维护标准** - 显影喷嘴压力校准周期：≤72小时 - 热板温度均匀性：±0.5℃以内 #### 三、进阶检测方法 1. **附着力量化测试** - 使用ASTM D3359胶带法，要求等级≥4B - 椭圆偏振仪测量膜应力： $$ \sigma = \frac{E}{1-\nu} \cdot \frac{\delta}{t} $$ 其中$E$为弹性模量，$\nu$为泊松比 2. **故障树分析(FTA)** ```mermaid graph TD A[Peeling] --> B[材料问题] A --> C[工艺异常] A --> D[设备故障] B --> B1{光阻批次验证} C --> C1(温度曲线审计) ```
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