模拟电子技术基础学习笔记之PN结

电子技术——PN结电流关系方程 平衡状态下的PN结界面总共有两种电流,一种为另一种为。两种电流形成的平衡区域称为。在平衡状态扩散电流等于漂移电流,此时静电流为0,PN结外部没有电流:图中ID​为扩散电流,IS​为漂移电流。xn​为耗散区n区域长度,−xp​为耗散区p区域长度,W为耗散区宽度。nn​为n区域主要载流子(电子)密度,等于掺杂浓度ND​pp​为p区域主要载流子(空穴)密度,等于掺杂浓度NA​。pn0​为n区域次要载流子(空穴)密度,满足pn0​。 阅读详情

半导体

半导体是在元素周期表中金属与非金属的交界处。常温下半导体导电性能介于导体与绝缘体之间。
半导体的晶体结构
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  • 半导体的晶体结构

载流子

在半导体物理学中,电子流失导致共价键上留下的空位(空穴引)被视为载流子。电流载体,称为载流子。在物理学中,载流子指可以自由移动的带有电荷的物质微粒,如电子和离子。

  1. 本征激发
    电子吸收能量,跃迁离开共价键,产生一个自由电子和自由空穴,这一过程称为本征激发。
  2. 自由电子
    产生了自由电子就可以
  3. 空穴
  4. 复合
    自由电子和空穴重新组合

载流子的浓度

杂质半导体

  1. 概念:掺入少量杂质元素
  2. 多子:对于N型半导体,多子是自由电子,反之,P型的是空穴
  3. 少子:对于N型半导体,多子是空穴,反之,P型的是电子

N型半导体

  1. 掺入P(磷,15号元素,多电),使半导体多出很多的自由电子

P型半导体

  1. 掺入B(硼),使半导体多出很多的空穴

PN结的形成

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  1. PN结的开启
    (1)、 多子的扩散运动
    由于P和N两个半导体结合,故在它们的结合区会形成N区的电子跑向P区的空穴,形成稳定的共价键,从而在那个区域形成一个势垒区,即空间电荷区,这个空间电荷区达到了一定的稳定度(够高的势垒,这个扩散运动就会停止,只有少子在做漂移运动)

  2. 空间电荷区:也叫耗尽层、阻挡层、Pn结

  3. 如何开启
    看上图(b)及下图,加个正向电压,让其产生与势垒区本身产生的内电场相反的外电场,势垒减薄,多子的扩散运动重新活跃起来,让Pn结有电流载体(载流子),恢复导通性。

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  1. 单向导通性
    如下图,加个反向电压,让其产生与势垒区本身产生的内电场相同的外电场,势垒加厚,扩散运动更难,只有仅有的少子在做漂移运动,但因为太少量了,微乎极微,可以直接看成没有,即断开

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5. Pn结伏安特性曲线

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PN结的电流方程

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不同材料的PN结的导通电压

GE 锗:0.2-0.3v
SI 硅:0.6-0.7

稳压二极管是利用PN结反向击穿临界,电压不管如何增加,它都不会再往上涨,只有电流再增加。当然正向也可以做一个0.7V 的稳定管,但是由于这个不能像反向状态一样可以有不向的反向击穿电压,故一般来说稳压管都是利用反向(反接)来使用,当然稳压管也有其自己其他的优点的,是有所选择的。

三极管和MOS管工作原理详解 PN结的形成 PN结是三极管以及场效应管中最基本的组成部分,要想彻底搞明白三极管以及场效应管的工作原理,必须先搞清楚PN结形成的原理和工作特性。 本征半导体以及空穴对 本征半导体(intrinsic semiconductor))完全不含杂质且无晶格缺陷的纯净半导体称为本征半导体。主要常见代表有硅、锗这两种元素的单晶体结构。硅、锗都是4价原子,在半导体内部形成相对稳定的共价键结构,如图 1所 阅读详情

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