光刻工艺分辨率瓶颈难突破？OAS 高NA非球面聚焦新可能

高NA非球面聚焦案例设计

简介

在现代光学系统中，高数值孔径（NA）非球面聚焦技术凭借其能够实现极小光斑尺寸和高能量集中度的特性，在光刻技术、显微成像、光镊操控以及激光加工等众多前沿领域发挥着关键作用。OAS 光学软件作为一款功能强大的光学仿真工具，具备处理复杂光学系统和光矢量特性的能力，为高 NA 非球面聚焦的研究提供了可靠的技术支持。

参数设置

研究高 NA 的非球面透镜对 x 方向线偏振的高斯光束的聚焦情况，重点分析焦区不同方向的电场分量分布。

具体参数设置如下：

光源选用波长为 600nm 的高斯光源，该波长处于可见光波段，在众多光学应用场景中较为常见；光源束腰半径设定为 1.25mm×1.25mm，此尺寸参数会影响光束的发散特性以及聚焦后的光斑形态；偏振态确定为 x 方向线偏振，明确的偏振态设置有助于针对性地研究光矢量特性在聚焦过程中的变化。非球面透镜采用高数值孔径设计，其具体参数依据实际应用需求和光学设计规范进行精确设置，以确保实现高效聚焦效果。

(高NA非球面聚焦的三维追迹图)

(光束模式场 |Ex|2的探测器结果图)

(光束模式场 |Ey|2 的探测器结果图)

(光束模式场 |Ez|2 的探测器结果图)

总结

本案例借助 OAS 光学软件成功实现了对高 NA 非球面聚焦系统的精确仿真与分析，清晰呈现了焦区不同方向的电场分量分布情况，验证了 OAS 软件在处理高 NA 非球面聚焦这类复杂光学系统时的有效性与准确性。