10、光照、阴影、模型加载与粒子系统技术解析

光照、阴影、模型加载与粒子系统技术解析

在图形渲染领域，光照和阴影的处理、模型的加载以及粒子系统的实现都是至关重要的环节。下面将详细介绍方差阴影映射、地形生成、模型加载和简单粒子系统实现的相关技术。

1. 方差阴影映射技术

方差阴影映射是一种能提供更好效果、性能更佳且计算更简便的阴影映射技术。相较于传统的 PCF 过滤阴影映射，它不是直接比较当前片段的深度值与阴影图中的平均深度值，而是计算并存储平均深度值（一阶矩）和平均深度平方值（二阶矩），然后利用方差来估计给定样本被阴影遮挡的概率。

1.1 实现步骤

• 设置阴影图纹理 ：

glGenTextures(1, &shadowMapTexID);
glActiveTexture(GL_TEXTURE0);
glBindTexture(GL_TEXTURE_2D, shadowMapTexID);
glTexParameteri(GL_TEXTURE_2D,GL_TEXTURE_MAG_FILTER, GL_LINEAR);
glTexParameteri(GL_TEXTURE_2D,GL_TEXTURE_MIN_FILTER, GL_LINEAR_MIPMAP_LINEAR);
glTexParameteri(GL_TEXTURE_2D,GL_TEXTURE_WRAP_S, GL_CLAMP_TO_BORDER);
glTexParameteri(GL_TEXTURE_2D,GL_TEXTURE_WRAP_T, GL_CLAMP_TO_BORDER);
glTex